二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353550 待售
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ID: 9353550
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wet bench, 12"
Process: SPMC PR-Strip
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: HF:H2O, 1:500 / 1:1000
Megasonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 35°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O
Megasonic: SSDM 2800 W
IWAKI FW-40-T Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
TRCXATEB1K Filter, 0.02 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
HQDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
SPTRVXATE4SM:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 110°C
Mixing ratio: H2S04:H2O, 5:1
Cold CIW: 40-60 l/min
NSPH-55KML Pump
COOLNICS AIH-64QS Heater
(2) LDFHTIGPK16E72-K7 Filters, 0.2 µm
HORIBA CS-150 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个湿式站，半导体加工中使用的一种半导体器件制造设备。它能够处理多个过程，如化学气相沉积（CVD）、电化学沉积（ECD）、物理气相沉积（PVD）等。它主要用于生产集成电路（IC）芯片。湿式站的设计是为了满足先进半导体技术的需求，并具有一系列选项，以满足生产过程的各种需求。湿站核心系统由处理器、控制器和人机接口（HMI）组成，允许操作员手动控制流程步骤。处理器和控制器负责控制控制过程的各种参数，并在过程中对不同参数进行调整。这包括设置正确的温度和压力值，以确保整个晶片过程的均匀性。HMI允许操作员设置流程环境并运行所需的流程。除处理器和控制器外，湿站还设有各种清洁系统，以清除可能影响IC芯片的可加工性和性能的不需要的污染物。这些系统的设计考虑到了特定的目的，可以包括使用过滤气体、特殊溶剂、气溶胶和其他清洁剂。在过程控制方面,TEL Expedius采用了多种计量设备.其中包括光学检查工具、气体雾化器以及各种型式的轮廓测量工具。计量设备用于测量工艺结果，如图样特征和层的厚度。然后,如果需要,将使用此信息调整工艺参数,以获得所需的结果。TOKYO ELECTRON Expedius附有多项安全功能，如火灾探测、温度压力感应器、气流感应器等。所有这些措施都旨在为操作员提供一个安全的工作环境。Expedius是一个强大可靠的湿站。它能够生产具有精确过程控制的高质量IC芯片。工艺选项和计量设备的范围使操作员能够产生统一和精确的输出。安全功能确保了操作员的安全工作环境，而设备本身为高效的IC芯片生产提供了可靠可靠的性能。
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