二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353551 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
湿式制程
製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
Expedius
ID: 9353551
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wet bench, 12" Process: SPMC PR Strip Load / Unload module: Transfer module: Dryer SD2: Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold DIW: 40-60 l/min POU (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 65°C Mega sonic: SSDM 2800 W Cold DIW: 40-60 l/min Hot DIW: 40-60 l/min Heater HF-960M Concentration monitor SC1 (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 35°C Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O Mega sonic: SSDM 2800 W IWAKI FW-40-T Pump AIH-124QS CS Heater with WJ Filter:TRCXATEB1K 0.02um HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor HQRD: Guide material: QUARTZ Process bath material: PTFE Temperature: 65°C Cold DIW: 40-60 l/min Hot DIW: 40-60 l/min SPTRVXATE4SM: Guide material: QUARTZ Process bath material: QUARTZ Temperature: 110°C / 140°C Mixing ratio: H2SO4:H2O 10:1 Cold DIW: 40~60L/min Pump: NSPH-55KML Heater: COOLNICS AIH-64QS (2) Filters LDFHT1GPK16E72-K7 0.2 µm HORIBA CS-150 Concentration monitor 2006 vintage.
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TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个为过程开发和设备原型设计的湿站。设备由晶片扫描系统和单晶片加工室组成，独立于模块化PE II（工艺外壳）框架内。湿站设计用于处理直径达300毫米（15厘米）的晶片，用于各种湿化学过程，如抗蚀条、氧化物蚀刻、自旋漂洗干燥（SRD）操作以及其他必要的清洁操作。扫描单元由用户友好的图形显示操作,可实现对晶片表面的精确过程控制。该设备配置有一个集成的微控制器，用于控制曝光时间、曝光次数、气体流量以及其他扫描参数。旋涡式烘干机是湿式化学操作后干燥晶片的一种选择。晶圆加工室包括高精度、双面平行板式的加工室，使工艺性能和重复性最大化。腔室的不锈钢结构轻巧，耐腐蚀。腔室可以配备集成气体机，允许在加工过程中注入挥发性化合物或耐腐蚀材料。该工具与酸、碱、溶剂和表面活性剂等多种化学物质兼容。该工艺室的精确设计实现了均匀的剂量和蚀刻性能，这对于可重复设备处理至关重要。该室可以很容易地重新配置为不同的客户应用不同的化学。该资产具有内置的安全功能，包括自锁容器、危险气体探测器、双气体阈值测量、密封安全室门等，防止外来气体引入操作环境。此外,该模型还能够精确控制曝光时间和均匀性。此外，它还配备了监测软件，可以记录、跟踪和分析过程数据，供今后参考。TEL Expedius湿站是一种可靠、灵活、可靠的设备，专为工艺开发和设备原型设计。湿式加工站具有直观的图形界面和高精度的双面加工室，非常适合要求精度和可重复性的应用。
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