二手 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9376105 待售
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ID: 9376105
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wet bench, 12"
Process: MRCA Pre-clean
Load / Unload module
Transfer module
Tank SD2 (Dryer)
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
M/S POU:
Guide material: Quartz
Process bath material: Quartz
Temperature: 70°C
Proportion: HCL: H2O, 1:500 / 1:1000
Mega sonic: SSDM 2800W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
CEH-480 Concentration monitor
O3 Water generator
SC1 (M/S):
Guide material: Quartz
Process bath material: PTFE
Temperature: 55°C
Mixing ratio: NH3OH: H2O2:H2O, 2:3:100
Mega sonic: DM 4800W
FF-20BT1 Pump
CS Heater
QCCZATM0IK Filter, 0.05 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: Quartz
Cold CIW: 40-60 L/Min
DHF:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Mixing ratio: DHF: H2O, 1:25
FF-20BT1 Pump
COOLNICS Heater
IHIG01M01K Filter, 0.2 µm
CM-210-05 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL（TOKYO ELECTRON）TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是为半导体製造工艺而设计的湿式车站。该平台专为执行蚀刻和沉积过程而设计，需要精确和可重复的结果，如溅射、热氧化、化学气相沉积（CVD）和反应性离子蚀刻（RIE）。平台设有原位蚀刻沉积设备，可实现精确的层级控制和更快的周转时间。该平台非常可靠,关键组件经过严格测试,确保最大程度的工艺性能和可靠性。TEL Expedius平台旨在提供最大限度的过程控制和可重复性。该平台采用大型真空基体，为溅射、CVD、RIET等工艺提供精确的气体分布。此外，高能蚀刻和沉积系统还配备了独特的气体注入装置，使用户能够进行高度精密的蚀刻和沉积过程。这种气体喷射机还使用户能够在基板上沉积任意形状的所需材料。使用TOKYO ELECTRON Expedius平台的优点包括对于溅射和异质外延等复杂过程起始原料的良好附着力，以及CVD和RIET的出色热均匀性。该工具还配备了先进的温度控制元件，用于精确的温度控制。此外，平台的优越基板支架和电阻式基板加热确保基板的重复和准确加热。Expedius平台高度可定制,使用户能够选择多种资产选项。该平台设计为可升级，允许用户随着需求和流程的发展而构建更复杂的系统。此外,该平台还配备了用户友好的软件包,使用户能够快速轻松地自定义流程并创建新配方。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON Expedius是一个先进的湿式站，为精密的蚀刻和沉积过程提供了一个通用可靠的平台。它的大型真空基体和能量喷射器提供了很好的过程控制，而其温度控制组件保证了可重复性和准确性。该平台具有高度可定制和可升级的特点,使其成为寻求高级蚀刻和沉积功能的用户的绝佳选择。
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