二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z #9124710 待售

TEL/TOKYO ELECTRON UW-200Z湿站是一种用于半导体基板件的高精度清洁干燥设备。它提供可靠的性能和高效的操作,以确保统一、一致和美观的结果.湿站为各类基材的脱脂、蚀刻、干燥工艺提供了综合解决方桉。该站采用细长、733毫米深度、一件式结构，使实验室或生产线前部空间最大经济性。TEL UW200Z是为实现最佳的流程效率和一致性而设计的,允许在操作人员的最低干预下保持一致的性能。TOKYO ELECTRON UW 200 Z湿式站具有可靠的双波形交流电源电源,具有更大的工艺灵活性。它可用于脱脂、蚀刻和干燥过程，并附加用户选择的功能，如背部干洗、锁定和现场板（Fplate）清洗。双波形交流电源能够精确控制温度，以实现更一致的表面干燥。增加板加热功能有助于最大限度地减少热量损失并确保精确的温度控制。TEL UW-200Z提供两种可定制的清洁工序：低温清洁和高温清洁。低温清洗过程从脱脂步骤开始，然后进行冷冲洗和热冲洗。这一过程减少了所需的化学品和能量。高温清洗过程采用后门连接，涉及酸性脱脂步骤，后跟热洗，用热水进行蚀刻过程。在干燥方面,TEL UW 200 Z采用了一种信任干燥计划,可最大限度地提高干燥速度并最大限度地减少异物的粘附。干燥信任计划的工作方法是利用清洁过程中产生的气流，并将空气与加热相结合。加热后的空气增加了干燥过程的效率，最大限度地降低了缺陷的风险。UW-200Z还配备了可选的气刀系统，用于分离基材的颗粒和液体。气刀单元通过使用高压气流来分离液体和颗粒，使基板干燥速度更快，效率更高。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON UW200Z湿式站是一台先进可靠的清洁和干燥机器，旨在满足半导体行业对质量元件不断增长的需求。它提供了工艺灵活性、精确的温度控制、两种可定制的清洁工艺,以及高效的表面干燥信任计划。