二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z #9278994 待售

TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z
ID: 9278994
晶圆大小: 8"
优质的: 2004
Batch wafer processor, 8" Dry-in / Dry-out Install type: Thru-the-wall (TTW) Automated load/Unload Application: Pre-diffusion clean Bath: 1: POU (Point of Use, configurable) 2: SC1 3: SD2 (HF / IPA Dry) Typical process flow: POU (HF )-> QDR -> SC1 -> QDR -> SD2 Includes: Cabinex CO2 fire suppression system LUFRAN 130-6HH6 DIW Heater UPS For computer only (installed on tool) UPS For full system (stand-alone unit) 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-200Z Wet Station是为集成电路装置的自动化制造而设计的顶级湿化学处理设备。TEL UW200Z采用工业级结构,以最佳的精度和一致的可靠性而设计。TOKYO ELECTRON UW 200 Z具有两个用于材料供应设备(MSS)的工艺储罐和两个最高温度可达370°C的标准储罐尺寸。这两个流程库都具有自动流程控制功能,可用于自动流程运行和监控。该站的冷却系统由两块冷却板组成,可针对两个不同的温度要求分别控制。每个罐子都装有一个工具料斗,允许插入基板和清洁工具。MSS工艺储罐使用一系列的泵和排水和填充装置,使用DI或 DI&DI水填充和排出储罐。这两个储罐还设有气泡板清洁机,以取代排气,尽量减少气泡,并改善基板清洁。TOKYO ELECTRON UW200Z提供了多种工艺模块来支持集成电路设备的自动化制造。这些模块包括厚膜条挤出机、多孔层压和隔离挤出机(PI),以及沸腾抑制剂应用(BIA)。厚膜条挤出机用于生产厚度均匀、耐湿性优良的厚膜电阻条。多孔层压和隔离挤出器(PI)可确保精确定位,并与均匀无空隙层压和电隔离所需的基板进行正确的保形接触。BIA与PI模块集成在一起,提供平滑的共晶键。此外,该站还包括一个基板运输工具,用于通过三个工艺罐运输基板。该站还设有智能基板管理资产(SSMS),用于识别基板并在三个工艺罐中进行最佳运输。TEL UW 200 Z Wet Station是寻求在湿法化学加工中的顶级精度和可靠性的理想选择。TEL UW-200Z具有全面的模块和自动化过程,提供无与伦比的多功能性,为集成电路设备的制造提供了无与伦比的速度和准确性。
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