二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300 #9098651 待售

TEL / TOKYO ELECTRON UW-300
ID: 9098651
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wet bench, 12" 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300湿式站是一种设计用于半导体湿式加工的可靠、经济的设备。TEL UW-300能够在其150毫米盒式磁带上精确、快速地处理尺寸达150毫米的小型基板。该系统通过高通量、精确的温度和运动控制,以及管理小型基板的优化功能,提供了出色的工艺重复性和产量。TOKYO ELECTRON UW-300具有大室容量和高效回收装置的化学用途.这对于需要极端温度或独特化学浴的潮湿工艺特别有用。采用模块化架构,机器可以量身定制,以支持各种湿法工艺,如精密蚀刻、湿洗、化学沉积和电镀。该工具集成了一个卡带处理单元,以自动化卡带的装卸。此功能有助于简化整个过程,减少污染并提高产量。此外,流体中央控制资产可以实现精确的温度和流量控制。这对于实现稳定的流程输出至关重要。UW-300能够精确控制过程。它使用电阻加热元件和远红外(Femto-IR)温度传感器提供精确的温度控制。它还采用了精确气源去离子化(SDI)控制模型来管理精确的气流。该设备还提供精确的定时控制以及精确的运动控制,以精确地输送配料。TEL/TOKYO ELECTRON UW-300具有独特的自动化监控系统,用于测量腔室设置、环境温度和基板温度,并提供时间戳信息,以生成易于审查、测试和优化的工艺日志和配方。该单元还包括一台板载数据记录机,用于在处理过程中收集操作参数,以改善过程控制并减少故障排除时间。此工具有助于最大限度地提高产量和生产率。总体而言,TEL UW-300湿式工作站为尺寸不超过150毫米的小型基板提供一致、可重复的湿式加工。其高吞吐量、精确的温度和运动控制,以及管理小基板的优良特性,使得生产可靠,工艺吞吐量优化。TOKYO ELECTRON UW-300是一种可靠且经济的资产,旨在帮助优化湿法加工.
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