二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9267289 待售

TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z是一个湿式站，适用于晶圆清洗、蚀刻、薄膜沉积等多种半导体相关工艺。它与湿法和干法都兼容，可用于从浅沟隔离（STI）到化学机械抛光（CMP）的应用。TEL UW300Z具有自动化的工具控制系统,允许对工具和过程进行自动调度,以及跨多种工具的统一化学方法。TOKYO ELECTRON UW 300Z外壳由坚固的不锈钢製成，製程室是一种低调的设计，容纳直径达300 mm的晶圆。它还具有一个易于使用、直观风格的触摸屏显示屏,位于设备的前部,便于操作流程。TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z还具有内置的安全特性，例如外壳上的安全灯帘，防止操作员进入加工室，以保护他们免受危险化学品或材料的伤害。在工艺化学上，UW 300Z可以支持HF（氢氟酸）、NaOH（氢氧化钠）、KOH（氢氧化钾）等各种湿蚀刻工艺。湿蚀刻工艺可用于清洁晶片表面，并在其表面上绘制纳米结构图案。另外，TEL UW 300Z还可用于将薄膜沉积到晶片表面，如太阳能电池中使用的铝膜。为了操作员的安全，TEL/TOKYO ELECTRON UW 300Z配备了一个开门互锁，防止操作员在晶圆在实验室时进入加工室。此外，TOKYO ELECTRON UW300Z还配备了排气罩，以确保被污染的空气被正确地排出实验室环境。此外，UW-300Z还包括一个板载粒子监测系统，可连续监测工艺室内的粒子水平，允许实时过程监测。总体而言，TOKYO ELECTRON UW 300 Z是一种理想的半导体应用湿式站溶液。它重量轻,但设计坚固,并提供自动化的工具控制系统,具有集成的安全功能,可确保操作员在实验室中的安全。此外，TEL UW 300 Z与多种工艺化学和薄膜沉积兼容，是各种工业和研究应用的绝佳选择。