二手 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9314664 待售
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ID: 9314664
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Wet station, 12"
TOADK AQM-100A Resistivity meter measuring system
MITSUBISHI Q06UDHCPU PLC
Gas: H2O2, NH4OH, H2SO2, HCL, IPA
Temperature controller
SRM Tank
Exhaust unit
Main PC
Robot:
RL: VEXTA AKD514H-A / VEXTA PK596AW1-A11
UD: Oriental ARD-A / Oriental ARM98MC-A4
FF-20BT1-T8 Pump
MA901-8FK29-88-3 Heater
Signal tower: (4) Colors (GYWR) PATLITE LED
(2) Teach pendants (Main / Spin dry)
Missing parts
UPS: 208 V, 50 A, Single phase
Power supply: 208 V, 3-Phase, 150 A
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z是专门设计用于光刻和开发等湿化学加工应用的湿式站。TEL UW300Z是一个坚固可靠的单元,易于操作,为要求最苛刻的湿处理应用程序提供了卓越的使用寿命。该单元提供了高度的可重复性和可靠性，单批可处理多达300个晶圆。湿式站具有直观的用户界面，与其他TEL湿式处理设备紧密结合。这个潮湿站的核心是一个最先进的、全机化的晶片托盘装载机设备，在晶片运输中具有很大的灵活性。装载机机构的设计可容纳100毫米至300毫米的各种晶圆尺寸。晶片在运输过程中被牢固地固定在适当的位置，以确保它们保持机械稳定，并减少潜在的粒子污染风险。TOKYO ELECTRON UW 300Z还具有晶圆处理机器人，它利用一个完全可调的三点调节系统来精确定向晶圆进行处理。TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z还配备了多项先进的安全环保功能。提供了加热空气盖，以确保操作过程中的热表面温度保持在可接受的范围内。该装置还配备了一个流量传感器，用于监测和控制向湿站供应化学品。这确保了精确数量的化学物质是专门针对工艺要求量身定制的，并降低了化学物质径流或溢出的风险。为了确保高产率，TOKYO ELECTRON UW300Z还拥有一些先进的缺陷检测和预防系统。该单元包括一个内置的粒子检测单元，用于检测和识别加工晶片上存在的沉积物。该单元还可以配置为测量关键的工艺参数,例如温度和压力,以便在造成缺陷或产量不佳之前检测工艺异常。UW-300Z提供了高效湿处理所需的所有功能。通过将电动装载机和晶圆处理机器人与先进的安全和缺陷防护系统相结合，TEL UW-300Z为最苛刻的湿式化学加工应用提供了最先进的工艺控制和可重复性。
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