二手 WAFAB Wet bench #293671282 待售

WAFAB Wet bench
製造商
WAFAB
模型
Wet bench
ID: 293671282
Cu plating bench.
WAFAB湿式工作台是一种用于半导体制造、清洗和蚀刻硅片的湿式工作台。湿式长凳由一系列浴池组成,这些浴池贯穿清洁和蚀刻的各个阶段。浴池用于盛装酸和其他化学物质如氢氟酸、盐酸和硝酸,用于清洗和蚀刻硅片。这些酸根据工艺的应用和具体要求分配到浴池中。当晶片穿过水浴时,适当的化学物质被分配来清洁或蚀刻表面。在WAFAB湿式板凳壳体内,晶圆传输有两种基本类型-机械和流体.机械淋浴有旋转的洗涤刷,在清洗和蚀刻过程中移动晶片。流体淋浴使用空气、水或油等液体流推动晶片通过过程。两种晶圆传递机制都有助于确保晶圆表面完全暴露于必要的清洁和蚀刻化学品中。清洗和蚀刻过程通常是先进行预冲洗,然后再进行一系列酸浴。根据具体工艺要求,晶片在进入干燥阶段之前可能经过一次或几次冲洗和化学浴。清洗和蚀刻过程完成后,晶片将移动到热板烘干机或真空烘干机,以便在处理晶片之前清除表面残留的酸和水分。除了清洗和蚀刻晶片外,Wet bench内还有其他几个过程进行。例如,使用旋转涂层和分配涂层等工艺将薄膜沉积到晶圆表面。同样的浴池也可以用来沉积化学物质,在晶圆上形成保护层或沉积退火层。根据具体工艺要求,浴池也可用于沉积半导体材料如聚硅和金属。总的来说,湿式板凳提供了一种有效的方法来清洁和蚀刻晶片,同时还提供了执行各种半导体工艺的灵活性。湿式板凳广泛用于半导体器件制造的各种加工阶段。
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