二手 WAFER PROCESS SYSTEMS / WPS SLFFH-600-P #9003748 待售

ID: 9003748
Wet Station HBT Acid/Corrosive/Etch chemical 60HZ 208V 3 Phase 45 amps 5 Wires Electrical Diagram # 0154356 Station # 2 HBT PNL 2M/32 34 36 All Controls are made by Wafer Process Systems 1) Switch Panel: WP5 Model 200 ASP Auxiliary 2) EPO: Model 100 Emergency Power off Panel 3) Process Timer: Model 1000T 4) Cycles: Model 20000 QDL Quick Dump Logic Station # 2 HBT Sink D546 All Controls are made by Wafer Process Systems 1) Resistivity Monitor: Model 900RM 2) Temperature/Time Controller: Model 3000 TTC 3) Process Timer: Model 1000T 4) Cycles: Model 20000 QDL Quick Dump Logic 5) Local Exhaust Ventilation: 1027 Hercules Foot Switch: CAT # 531-SWN Nema Type 2, 4 & 13 Extra parts included.
WAFER PROCESS SYSTEMS/WPS SLFFH-600-P湿站是一种自动化和完全集成的设备,设计用于处理各种生产环境中的小型/大型扁平晶片。它具有一系列用作输送机的旋转托盘,允许精确且可重复的产品装卸,以及两个对称定位的加热模块,有助于确保均匀的温度。该系统设计用于多种工艺和材料,包括多种化学工艺、稀释、蚀刻和清洁操作,并可配备可选涂层、激光划线和机器人系统。WPS SLFFH-600-P可以容纳直径最大为600mm、厚度最大为20mm的晶片,并且该单元可以同时处理多达6个晶片,吞吐量高达每小时500个晶片。晶片加载到旋转托盘上,旋转基础上最多可对晶片应用6种不同的工艺。所有过程都由机器的专用控制器管理,从而可以精确、一致地控制整个生产过程。WAFER PROCESS SYSTEMS SLFFH-600-P具有强大的步进电机,用于精确的速度控制,其先进的双泵工具能够控制溶液的速度和流量。这一湿站还提供了一种连续的工艺模式,能够处理多达1,800个晶片,加载速率高达每分钟10个晶片。该资产还设计了颗粒收集和回收模型,允许清洁和环境友好的操作。SLFFH-600-P由于其强化的结构和先进的安全特性而非常可靠和坚固。该设备经过广泛的安全测试,确保人员安全,并设有报警和紧急停车。此外,该系统还可防止冲击和振动,其温度管理单元可确保最佳工作条件。WAFER PROCESS SYSTEMS/WPS SLFFH-600-P是一个可靠、高效的湿式站,非常适合处理各种行业中的薄/大扁平晶片。
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