二手 HITACHI X-Strata 920 #293810485 待售

HITACHI X-Strata 920是一款先进的X射线设备，设计用于从半导体制造到材料研究等多种应用中的高性能薄膜分析。这款最先进的仪器融合了尖端技术，为薄膜成分、厚度、结构提供精确准确的测量。X-Strata 920的一个主要特点是它的高分辨率X射线光学器件，能够对具有纳米尺度分辨率的薄膜进行详细分析。该系统配备了高光度X射线源，保证了样品的最佳激发，提高了分析灵敏度。这对于分析复杂的层状结构和薄膜尤为重要,因为精确的测量对于表征材料特性至关重要。HITACHI X-Strata 920还配备了一个用途广泛的样本级，可以分析各种样本量和形状。该单元支持手动和自动示例加载,从而能够在一次运行中快速高效地分析多个示例。此外，样品级可以倾斜和旋转，以优化不同类型薄膜的测量几何形状，确保可靠和可重现的结果。在分析能力方面,X-Strata 920提供了一整套用于表征薄膜特性的测量技术。该机包括X射线荧光（XRF）分析，使元素成分分析具有高的灵敏度和精确度。这种技术对于识别薄膜中的杂质和掺杂剂，以及测量多层薄膜堆栈内各层的厚度特别有用。此外，HITACHI X-Strata 920具有X射线反射率（XRR）和放牧入射X射线衍射（GIXRD）能力，为薄膜的结构和形态提供了有价值的信息。用XRR测量薄膜的密度和厚度，用GIXRD分析薄膜材料的晶体结构、晶格参数和取向。这些技术补充了XRF分析，为薄膜表征提供了全面的方法。X-Strata 920由直观的软件控制，该软件提供了一个用户友好的界面，用于设置实验、获取数据和分析结果。该软件允许使用可定制的测量协议、数据处理算法和报告工具,从而便于根据特定的研究或制造要求定制分析。此外,该工具还配备了高级数据可视化工具,使用户能够以清晰简洁的方式解释和可视化结果。总体而言,HITACHI X-Strata 920是一款功能强大且用途广泛的薄膜分析工具,可提供高级分析功能、高灵敏度和精确测量。无论是在研究实验室、质量控制环境还是半导体制造设施中使用，这一仪器都提供了薄膜材料的可靠准确的表征，帮助研究人员和工程师优化材料性能和性能。