二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #78825 待售
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已售出
ID: 78825
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Poly etch / microwave strip system, 12"
Install Type: Thru-the-wall (TTW)
CE Marked
Protocol: FEOL
System SW: 1.7.1-SP3-HF5
Mainframe Type: V2.0
Cassette Interface:
(3) Brooks 300mm FOUP Load-ports
Brooks Mag 7 Robot
User Interface: Side/Front
OES: Ocean Optics
Status Lamp (RYGB) Side/Front
PM3: 2300 Kiyo45 Poly Etch
TMP Pump: Edwards STP-XA2703CV
RF PS (Top): AE Apex 1513, 13.56MHz (1500W max)
RF PS (Btm): AE Apex 1513, 13.56MHz (1500W max)
Gas Box:
Unit 8561 MFCs
SICL4, CL2, SF6, CHF3, H2, NF3, HBR, HBR, CH2F2, CF4, O2, O2, N2, CHF3, Ar, He
PM4: 2300 Mwave Strip
Mwave PS: Astex AX2630LRC3-S
Mwave Match: MKS V0DMB-26565
Gas Box:
Unit 1661 MFCs
N2 (1000), O2 (5000), CF4 (100), H2O (3000)
Chiller (PM3): Noah 3500 POU, BTM: HT200, PSC-8800 Cntrl
Pumps: Not all Pumps may be present
Main AC Power Dist. Box (Wall/Unistrut mount)
Power Requirements: 208V, 272A, 3-PH, 3-wire+Gnd, 50/60Hz
Can be inspected
2005 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45是一款高度先进的蚀刻组装解决方桉,旨在满足高级蚀刻组装需求。此产品有助于提高性能、准确性和产量,同时降低成本。这款蚀刻器/asher采用业界领先的定向等离子体蚀刻（DPE）技术，提供出色的蚀刻精度和均匀性，以及高密度的器件特征装配。LAM RESEARCH 2300 VERSYS KIYO45提供42个工艺室,每个室都配备DPE功能,可集成300多种工艺配方。每个腔室都配有沉积、蚀刻和退火模块以及12个高分辨率质谱仪。每个腔室都有一个4英寸乘5.2英寸（200毫米）乘6.5英寸（500毫米）的窗口，提供出色的光学接入和较大的晶圆面积。该腔室光学质量优越，覆盖精度优越，且腔室背景压力低，配合高供应流量，提高了蚀刻工艺质量。2300 Versys Kiyo 45旨在优化吞吐量，每小时最多可处理450个晶圆。它可以为大批量制造提供可重复的蚀刻配置文件,并凭借其DPE技术具有高度的工艺配方灵活性,从而实现更高效的工艺集成。2300 VERSYS KIYO45设计用于生产环境,可安全运行。其集成过程控制系统、LED可提升子结构、自动晶圆和盒式进纸器以及故障安全过程有助于确保晶圆的最大产量,同时最大限度地缩短维护时间。该系统也具有灵活性，以适应生产需求的变化。LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45是芯片制造和封装的理想选择,提供卓越的精度和产量,以及高质量和可重复性。这个先进的系统提供了一个绝佳的解决方桉，以蚀刻和组装复杂的设备，同时降低生产的总成本。
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