二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #9007779 待售
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ID: 9007779
Metal Etcher, 12"
Application: M1/M2 Al Etch
Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH
Install Type: Stand-Alone
System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5
Factory Interface/Automation:
Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation)
Brooks 300mm Load-Ports
25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1)
Overhead Transport System (OHT)
OHT PIO Sensors
Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read
Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader
Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM):
Platform Type: Version 2
User Interface-1: Front side, Flat Panel Display
User Interface-2: System side, Flat Panel Display
GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT
Status Lamp: (2) R/Y/G/B
1: Front side (FI), Upper-Left
2: Tool side, Upper-Right
EMOs: (2) Front, (2) Rear
Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station
Heated Fore-lines
Dual Drop Sub-Panel
UPS on System
GFI Main CB
TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box
Tool Fab Interlocks:
Gas Box Door (Local) Fab
Fab Gas Box Iso-Valves
Utility Box:
Regulators:
CDA: SMC AR2500
N2: Veriflo SQ-420E
He: Veriflo SQ-Micro
Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD)
Pressure Gauge: Bourdon Gauge
De-installed
2006 vintage.
LAM RESEARCH系列LAM RESEARCH 2300 Versys是一款精密的蚀刻/asching设备，旨在满足半导体行业的需求。该系统具有广泛的工艺模块，能够在现代半导体器件的生产中执行关键的蚀刻和asching任务。2300 Versys配备了高度可靠、坚固的工艺室和智能控件。这个加工室是密封的，没有暴露在外部大气中，以确保一个干净纯净的环境，用于蚀刻和烧蚀材料。此外，该腔室还装有一个基于氮的管道装置，使加工气体在整个腔室中的亚音速分布能够提供均匀的材料沉积。LAM RESEARCH 2300 Versys先进的远程等离子体源和反应性离子蚀刻能力,可实现对蚀刻速度、图样、蚀刻尺寸和均匀性的高精度控制,并能抵抗加载和去除。此外，多室疏散和回填能力能够完全遏制蚀刻副产品，从而减少污染。此外,机器的自动化过程控制功能允许快速设置和转换,而无需手动调整。此外，通过全面的过程监测和诊断能力，可以优化过程产量和质量，同时提高可靠性和可用性。此外,2300 Versys的高级流程控制计算机（APCC）允许完整跟踪和记录流程配方参数和结果,同时提供实时数据采集和操作功能。APCC还有一个集成电源,大型机有多种模块,可与多种工艺工具连接。最后,LAM RESEARCH 2300 Versys是一款高度先进的蚀刻/asching工具,具有完善的工艺控制和监控功能。该资产具有高度可靠、坚固的工艺室和智能控制，可提供高效、可靠的蚀刻和加工。此外，这种多功能平台为许多生产工具提供了动力，使其非常适合现代半导体生产需求。
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