二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #9008862 待售
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ID: 9008862
Metal etcher, 12"
Install Type: Stand-Alone
Application: M1/M2 Al Etch
System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5
Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH
Factory Interface/Automation:
Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation)
Brooks 300mm Load-Ports
25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1)
Overhead Transport System (OHT)
OHT PIO Sensors
Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read
Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader
Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM):
Platform Type: Version 2
User Interface-1: Front side, Flat Panel Display
User Interface-2: System side, Flat Panel Display
GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT
Status Lamp: (2) R/Y/G/B
1: Front side (FI), Upper-Left
2: Tool side, Upper-Right
EMOs: (2) Front, (2) Rear
Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station
Heated Fore-lines
Dual Drop Sub-Panel
UPS on System
GFI Main CB
TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box
Tool Fab Interlocks:
Gas Box Door (Local) Fab
Fab Gas Box Iso-Valves
Utility Box:
Regulators:
CDA: SMC AR2500
N2: Veriflo SQ-420E
He: Veriflo SQ-Micro
Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD)
Pressure Gauge: Bourdon Gauge
De-installed by OEM
2006 vintage.
LAM RESEARCH VErsys 2300 蚀刻器/asher是一款高端蚀刻器和asher设备，非常适合半导体行业的蚀刻和清洁工艺应用。Versys 2300具有先进的电源解钩工艺室,可提供广泛的压力、温度和气流,以满足所有蚀刻和清洁需求。Versys 2300还有一个集成的负载锁室和一个远程等离子体源，可以快速高效地加载和卸载晶片，以及同时使用低温和高温过程。Versys 2300采用LAM获得专利的热调制设计,为温度均匀性和可重复性提供了最佳控制。此功能使其成为业界最可靠的蚀刻/灰化系统之一,因为它提高了过程控制的准确性,并确保了一致、可重复的结果。Versys 2300还定位了两种类型的等离子体源：远程等离子体源（RPS）和等离子体火炬系统（PTS）。远程等离子体源使用石英窗口来容纳等离子体，能够获得更高的功率水平，而等离子体火炬单元则更可靠，在低功率水平下产生更一致的结果。Versys 2300还配备了一台名为SES（Smart Etcher Tool）的高级流程自动化机器。这一资产允许使用最少的操作员输入实现蚀刻和清洁过程的完全自动化，从而显着降低了人为错误的风险。此外,还可以使用各种软件选项和定制配方来配置模型,以满足多种流程要求。Versys 2300还配备了LAM创新的AI诊断工具,使用户可以访问设备和过程信息的实时监控。这使用户能够快速轻松地识别流程问题并在需要时进行更正。Versys 2300是一款可靠高效的设备，非常适合半导体行业的任何蚀刻和清洁应用。
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