二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #9195904 待售

LAM RESEARCH 2300 Versys
ID: 9195904
Reactive Ion Etch (RIE) system Process: Metal etch Integrated Circuit (IC) Wires and electrical connections Metal Hard Mask (MHM) Typical mask Flexible platform Controlling repeatable profiles Critical Dimensions (CD) BEOL Metal etching MHM Increase selectivity of low-dielectric insulating films With BEOL integration Controlling trench dimensions and roughness bottom line Interfere with productivity and compensating power Metal Hard Mask (MHM) (TiN) High density aluminum line Aluminum pad.
LAM RESEARCH 2300 Versys是为高通量DRIE(深反应性离子蚀刻)和ICP(感应耦合等离子体)蚀刻应用而设计的先进蚀刻器/asher。该蚀刻器具有介电室和先进的前馈控制系统,是高通量生产环境的理想选择。2300 Versys的前馈控制系统确保蚀刻过程高度均匀,使生产过程顺畅且可重复。它还配备了高分辨率传感器来监控关键蚀刻工艺参数,允许在整个工艺过程中进行微调控制。LAM RESEARCH 2300 Versys非常适合DRIE应用,因为它能够实现高蚀刻速率和光滑的侧壁轮廓,非常适合积极蚀刻介电材料。它在蚀刻环境中具有均匀的气流,可以精确控制蚀刻速率以及可重复的结果。2300 Versys还提供高功率射频(RF)源选项,包括ICP蚀刻源。这使得DRIE和ICP流程周期能够按顺序进行,从而提高了流程的灵活性和效率。此外,LAM RESEARCH 2300 Versys可以轻松集成到大型自动化生产环境中,从而允许大规模蚀刻应用。总体而言,2300 Versys是为ICP和DRIE应用程序设计的高级高通量蚀刻器/asher。由于其先进的前馈控制系统、均匀的气流和高功率射频源选项,该蚀刻器提供了精确且可重复的蚀刻工艺。此外,它可以轻松集成到大规模自动化生产环境中,使其成为高通量蚀刻应用程序的理想选择。
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