二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #9251504 待售

LAM RESEARCH 2300 Versys是一款高端蚀刻和灰烬处理设备，旨在满足当今复杂的IC制造工艺的严格要求。2300 Versys采用了全新的前沿处理器,可实现更高的吞吐量、流程灵活性和改进的性能。LAM RESEARCH 2300 Versys包括一个双面敏感器组件和一个升级的高真空涡轮分子泵，它提供快速的抽水时间和在大基板上均匀膨胀的过程气体。它能够加工最大晶圆尺寸为300 mm的大型基材，成为大批量生产的理想工具。2300 Versys提供先进的过程控制功能,其最先进的自动化系统可方便用户编程、配方形成和参数设置。该单元包括了广泛的加工能力，包括蚀刻、RIE（反应性离子蚀刻）、IBE（离子束蚀刻）、湿蚀刻和灰烬。灰分能力是基于专利的多区热氧化物（MTO2）技术，使高均匀和可重复的氧化物生长在大基板上。除了自动控制机外，LAM RESEARCH 2300 Versys还提供先进的原位监测选项，包括多气体探测器、光发射光谱和半球形反射仪。它的现场监测能力能够准确测量工艺参数并确保生产质量。2300 Versys还具有多项工艺增强功能,例如获得专利的缝隙填充工艺和改进的深度蚀刻轮廓。它是为满足最严格的尺寸要求而设计的，与广泛的薄膜耐电和导体材料兼容。该工具配置了集成的PECVD（等离子体增强型化学气相沉积）工艺，能够增强线宽控制。为提高产量和提高产量,LAM RESEARCH 2300 Versys采用集群工具配置,将蚀刻和灰分资产与其他模块（如化学等离子体气相沉积）、ALD（原子层沉积）、化学蚀刻和保形涂层结合使用。该型号还提供了一些附加的生产选项,如自动负载锁定和自动盒式磁带处理程序,以及可选的工艺样品监控和全晶片反射率监控。综上所述，2300 Versys是一款高性能蚀刻和灰烬设备，旨在满足当今复杂的IC制造的高生产和工艺要求。它提供了先进的工艺控制功能、提高的吞吐量和跨大型基板的统一化学计量,以及广泛的生产选项和现场监控选项,以确保工艺和生产质量。