二手 LAM RESEARCH 4520i #9196534 待售
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ID: 9196534
晶圆大小: 6"
优质的: 2004
Etcher, 6"
Verity enhanced endpoint detection
LAM RF Generator rack:
ISO AE RFG 1250 RF generator
Chamber process kit parts:
Attachment ring
Upper and lower baffles
Electrode clamp ring
Filler ring lower clamp
Focus ring edge lower
Bottom wafer clamp
Single wafer
Flat notch orientation
Integrated isotropic-anisotropic etching
Wafer temperature control:
Reduced loading effects
Variable gap spacing: Wide process flexibility
Parallel plate reactor: Proven etch technology
Inductive RF auto tuning: Fast accurate RF tuning for precise control
Thermal oxide etch rate: ≥ 4500 A/min
BPSG Etch rate: >7500 A/min
TEOS Etch rate: >5000 A/min
Uniformity: +/- 10% 3
Selectivity BPSG/TEOS to poly: >15:1
Particles: 0.3μm size
Does not include dry pumps or chiller
2004 vintage.
LAM RESEARCH 4520i是一种全自动的单室等离子体亲和气体蚀刻器/灰化器,旨在提供最精确的蚀刻和灰化工艺。该设备能够支持多种技术，如反应性离子蚀刻（RIE）、感应耦合等离子体（ICP）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和磁控管溅射。这种蚀刻和灰化工艺适用于包括制造半导体器件、硬盘、平板显示器和其他高级基板在内的多种应用。4520i配备了灵活的源代码阵列,可用于任何蚀刻或灰化组合。它包括一个独特的低温电容耦合源以及用于定制应用的传统ICP源。LAM RESEARCH 4520i产生极精确结果的能力使其适合高密度、超细线蚀刻和灰化的需要。此外，工艺窗口足够大，可以容纳各种各样的气体和应用。此外，4520i还配备了原位气体清洁剂，以减少工艺污染并提高生产率。它还利用板载传感器来确保过程的一致性和高效的自动加载系统来减少处理时间。该设备的控制器设计用于在各种环境中快速、准确地运行。LAM RESEARCH 4520i具有很高的适应性，提供了广泛的参数变化，以适应任何特定应用程序的要求。它使用多种材料，能够同时进行低压和高压蚀刻，以及一系列不同的温度和功率水平。机器在加工室内的均匀温度分布提供均匀一致的结果。4520i高效、经济高效,非常适合大多数蚀刻和灰化应用。
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