二手 LAM RESEARCH 490 #83458 待售

LAM RESEARCH 490是一种先进的重型反应性离子蚀刻（RIE）设备，用于半导体晶片的蚀刻、清洁和其他表面处理。该系统利用最先进的硬件和软件在从硅到电介质和金属再到复合半导体的各种材料中提供高度可靠和可重复的结果。490标配0.1 um分辨率激光干涉仪和光学轮廓仪,以确保精确的蚀刻轮廓。等离子体是通过对化学反应气体施加高能电场，或者通过将产生等离子体的气体加热到虚拟的"雪崩"而在隔离室内产生的。蚀刻食谱可以根据特定需求定制。LAM RESEARCH 490还利用悬浮基板支架和支撑结构，使各种材料能够进行各种蚀刻工艺。此外，490配备了可以适应任何工艺要求的压力控制系统。LAM RESEARCH 490能够产生非常高的刻蚀纵横比,深度在0.05-1 um之间.它还具有低负载点反应物控制单元（LLRC），可以精确控制反应物通量和整个底物的均匀性。离子可以选择性地沉积在底物上，减少不需要材料的去除。490具有获得专利的射频电感耦合等离子体（RFICP）源。这允许原位等离子体诊断，与脉冲调制光谱和发射成像的等离子体。此功能对于分析蚀刻工艺以优化蚀刻工艺条件和提高吞吐量至关重要。LAM RESEARCH 490有几种选择，以减少关键材料的共沉积，并消除任何回潮的可能性。这是运行大批量基材时的一大成本节约。490使用低真空排气，确保反应室完全撤离，不留副产物或反应产物痕迹。LAM RESEARCH 490还配备了先进的安全机器,内置冗余以确保工作环境不间断。490通过CE和CSA控制合规性认证,确保符合最高安全标准,并且能够在任何环境中使用。总体而言，LAM RESEARCH 490是半导体生产过程中必不可少的工具。其先进技术产生精确、可重复的效果，其安全系统超越行业标准。490是半导体行业任何蚀刻或清洁要求的理想选择。