二手 LAM RESEARCH 490 #9094106 待售

ID: 9094106
晶圆大小: 4"-6"
Automatic plasma etcher, 4"-6" Process: polysilicon, refractory metal silicides and nitrides Wafer alignment capabilities Built-in wafer transport mechanism Computer controlled I/O: runs, executes recipes, hazard warnings and malfunctions Currently non-operational in a cleanroom.
LAM RESEARCH 490 蚀刻器/asher是一种高效、高通量的晶圆蚀刻和灰化设备,为各种工艺提供了高度的灵活性。该系统采用先进的设计技术来提供可预测的过程结果。它非常适合低k、高密度互连、研发应用和半导体器件的生产加工。490是一个单室单元,由两个主要组件组成:反应性离子蚀刻器和Asher(RIEA)和RF电源。RIEA利用磁约束电弧产生蚀刻过程。利用负电势在晶圆和阴极之间产生电弧。电弧喷雾使用水冷的ETCH同心环聚焦,以限制离子的运动并将离子引向晶片。射频电源为优化的等离子体产生提供了可调直流功率(范围从0到500W),独立于腔室压力。该机器完全集成且易于使用,具有灵活的软件体系结构和内置的安全功能,可提供过程控制功能。此外,该工具具有较高的可重复性、较快的循环时间和较低的晶圆扭曲风险。LAM RESEARCH 490提供了广泛的蚀刻和ashing选项,并提供了一个可定制的流程库,允许用户根据其特定应用程序定制资产。该模型的设计采用了广泛的清洁化学方法,同时实现了高通量和高度控制的蚀刻和灰化工艺。490的设计符合或超过了几个半导体制造行业标准的要求。符合ISO 9001:2015、US FDA 21 CFR Part 11、SEMI Sec 7。LAM RESEARCH 490是半导体行业任何蚀刻和灰化应用的绝佳选择。它为执行各种蚀刻和灰化过程提供了高效、高效、高通量的设备,具有高度的过程控制、可重复性和安全性。
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