二手 LAM RESEARCH 490 #9277853 待售

LAM RESEARCH 490 蚀刻器/ascher是一种高性能化学气相沉积（CVD）设备，设计用于在半导体晶片上高效生产薄膜沉积。该系统能够以高精度和重复性沉积电介质、聚合物和半导体材料。490提供了简单明了的图形用户界面和直观的操作单元,旨在最大程度地减少用户输入,同时最大限度地提高吞吐量。LAM RESEARCH 490具有两个独立的沉积室，能够同时将两种不同的材料沉积在同一基质上。这使得快速高效地创建复杂的结构成为可能。490利用低成本石英反应器对聚合物、电介质和半导体材料进行化学气相沉积而不暴露底物。反应堆配有内部加热器，可进行精确的温度控制和气流管理，从而实现高质量层的高度可重现沉积。这保证了从存款到存款的良好均匀性和可重复性。LAM RESEARCH 490为复杂材料的沉积提供了一系列可编程的工艺参数。可以调整基板温度、压力、气体流量、腔室压力、气体类型等参数，以优化工艺。此外，该机器还提供了空气屏蔽设计，有助于经济高效的大规模生产，同时降低晶圆污染的风险。490还具有过程监控系统,以确保沉积均匀性,从而无需昂贵的过程监控设备。它内置的排气工具允许仔细管理腔室排气，提供改进的过程控制和更长的部件寿命。总体而言,LAM RESEARCH 490蚀刻器具有很高的性能和灵活性,非常适合在半导体晶片上沉积薄膜的任何应用。490具有强大的特点和经济效益，是快速、高质量生产多种薄膜沉积类型的理想解决方桉。