二手 LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9172338 待售
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已售出
ID: 9172338
优质的: 1994
Etcher
With rainbow endpoint detection
Water cooled platen
Standard recipe 600/601 for Al etching:
Etch rate: 800 nm/min
Photoresist etch rate: 400 nm/min
Standard recipe 640 for Al2O3 etching:
Etch rate: 100-120 nm/min
Substrate size: 150 mm Diameter
Allowed materials: Al, Al2O3, TiO2, Poly Si, Nb
Forbidden materials: Non IC-compatible materials
Gases: Cl2, BCl3, HBr, SF6, CF4, Ar, N2, O2, He
Pressure: 0-100 mTorr
Process temperature: 55°C
Electrode power:
Top: 0-1250 W
Lower: 0-1200 W
1994 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE是一种用于半导体制造及相关行业的高度可靠、高生产率的蚀刻器或粉碎器。它专为化学气相沉积（CVD）工艺而设计，涉及薄膜或层在基板或半导体晶圆表面的沉积。LAM RESEARCH TCP 9600SE提供了一系列功能,旨在提高沉积膜的整体蚀刻速率、均匀性和化学成分。TCP 9600 SE的高性能设计由DirectDrive直线电动机驱动，以低漂移提高蚀刻均匀性，也明显比传统的拉丝电动机设计安静。它还具有先进的热控制设备和各种各样的集成和可编程选项,包括数字模式识别（DPR）、温度扫描、能量扫描和功率测量。该系统的先进静电卡盘（ESC）确保了良好的基板附着力和均匀加热整个过程。蚀刻器可以调整到广泛的基材尺寸，从200毫米和300毫米到8英寸、10英寸和12英寸的晶圆。它具有集成晶圆处理程序、可调加热块和气流系统。该装置的电动机驱动亚均匀腔室旨在减少颗粒污染并保持最佳均匀蚀刻速率。TCP 9600SE是一种可靠且用户友好的机器。其直观的用户界面简化了CVD流程的操作,并有助于减少停机时间。此外,该工具的远程监视、数据记录和诊断功能使用户能够监视其流程结果,并在必要时从远程位置进行调整。LAM RESEARCH TCP 9600 SE因其高性能设计、集成诊断和数据记录功能以及用户友好性，非常适合要求苛刻的半导体蚀刻和沉积过程。其强大的设计确保了可靠的操作和最大的整体生产力。
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