二手 LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9205199 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9205199
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
Etcher, 8" Chiller: 650 x 550 x 1120  Dry pumps: 650 x 1280 x 1300 Remote power module: 700 x 640 x 1850 On-board AC Dist Type: Circuit breaker (2) On-Board RF generators: Onboard: SML-1250PBC (Sunsay) Onboard: SML-1000DSQ (Sunsay) Main process module (PM1): 9600 Wafer clamp Electrode gap: Fixed gap TCP Coil: 8” Turbo pump: BOC EDWARDS Turbo control: BOC EDWARDS (STP1000L) Gate valve: VAT 64 (Heated) Heat exchanger / Chiller: TAITEC CH-800B Gas line Gas 1 BC13 2 C12 3 N2 4 SF6 5 Ar 6 O2 7 CF4 8 O2 Dry pumps: EBARA A70W-N EBARA A80W EBARA AA40W EBARA A70W 1995 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE是一种用于半导体生产应用的最先进的蚀刻器和灰化器。此产品采用高效、集成的设计,使其与其他蚀刻和灰化过程区分开来。LAM RESEARCH TCP 9600SE使用高功率、高频的射频等离子体,快速蚀刻和清除半导体晶片表面上不需要的材料。该装置采用先进的等离子体源、精密电极设计和多腔操作,即使在具有挑战性的应用中也能提供可重复和可靠的性能。TCP 9600 SE的最大灰度/蚀刻速率高达每小时60个晶圆。由于其快速循环的时间和高吞吐量,TCP 9600SE可以在半导体生产中产生最高的产量。它的模块化系统配置允许灵活集成额外的组件和设备,允许用户自定义设备以满足其特定的生产需求。LAM RESEARCH TCP 9600 SE为用户提供了广泛的过程参数以获得一致的结果。这样,厂家就可以期待高重复、高可靠的优质晶片生产。用户可以将设备配置为以不同的深度和不同的蚀刻速率蚀刻和灰烬,从而允许他们根据特定的晶圆和层定制工艺。所有这些功能都以紧凑的设计为基础,能够实现高空间性能比。LAM RESEARCH TCP 9600SE是大多数空间关键型应用的理想选择。它也是安全的操作,得益于其低压等离子体源和内置的辐射防护功能。这样可以缩短维护时间并提高工人的安全性。TCP 9600 SE以其先进的功能、令人印象深刻的蚀刻和灰化性能以及快速的循环时间而令人印象深刻,以最大限度地提高产量。LAM RESEARCH蚀刻器和asher具有精确、可重复、可靠的结果,是复杂半导体生产应用的理想选择。
还没有评论