二手 OXFORD Plasmalab 100 #293587250 待售

OXFORD Plasmalab 100
ID: 293587250
ICP Reactive Ion Etcher (RIE) LED Field PECVD.
OXFORD Plasmalab 100是一种蚀刻器和asher,设计用于广泛的蚀刻应用。该设备设计可靠、坚固、用途广泛,采用直流耦合、低压和高压磁增强、感应耦合等离子体(ICP)蚀刻用于电子器件和相关应用的金属和介电层。蚀刻和灰化过程使用一条通常是金属或介电的目标材料作为要蚀刻的基材,以及一系列精确控制的脉冲将材料蚀刻成形状和图桉。Plasmalab 100的主要部件包括等离子体源、腔室、控制器和真空泵送系统。等离子体源是低压和高压电容耦合直流电(CC-DC)的组合,允许单元提供稳定且高度均匀的等离子体。这提供了最高质量的蚀刻和灰化结果。该腔室由一个前室和一个工艺腔室组成,该工艺腔室具有匹配的感应线圈,从而能够精确地定时进行蚀刻/灰化的脉冲。控制器负责控制等离子体的参数,以及监测和控制压力水平。真空泵机保证了腔室内的低压力水平,可以调整以满足特定应用的要求。OXFORD Plasmalab 100是一种坚固可靠的工具,能够使用多种金属和合金,以及高k介电材料。资产提供了可调整和可重复的蚀刻速率,从而实现了精确的可重复结果和过程优化。该模型适用于广泛的蚀刻应用,包括3 D堆叠芯片封装和MEMS制造,以及微电子、集成电路(IC)封装、晶圆切片、光学制造。此外,设备还能处理高分子、石英、薄膜等易碎材料。Plasmalab 100是一种可靠、坚固的蚀刻器和灰化器,能够对多种材料进行蚀刻,以满足许多蚀刻应用的需求。该系统具有精确且可重复的蚀刻速率和可调整的压力水平,从而实现可重复的精确结果。该设备非常适合用于IC封装、MEMS制造和晶圆切丁以及其他市场和应用。
还没有评论