二手 OXFORD Plasmalab 100 #293656747 待售

ID: 293656747
晶圆大小: 8"
PECVD System, 8" Process: SiN.
OXFORD Plasmalab 100是一种蚀刻器/显影剂,设计用于广泛的真空薄膜沉积工艺。该单元采用紧凑耐用的设计,可用于许多工业和实验室环境。Plasmalab 100配备了一系列先进的技术部件,使其能够蚀刻和沉积各种各样的材料。这包括薄膜氧化硅、氮化物、铝、钛、钨和各种金属、合金、氧化物。该单元设有一个独立的腔室,该腔室配有一个整合泵,用于泵送所有必要的气体并产生所需的真空压力。密封室的设计确保向沉积室稳定供应清洁气体,从而实现材料的精确可靠的蚀刻和沉积。集成的可编程压力控制器可自动调节腔室内的压力以获得最佳的蚀刻性能。OXFORD Plasmalab 100配备了一个巨大的4千瓦电源,能够提供必要的电力来驱动各种蚀刻配方,从低电流密度到高电流密度的过程。可调离子源允许用户根据正在蚀刻或开发的材料定制离子束。这包括调整能量和电流密度的能力,以及光斑大小,这都是蚀刻相同大小和深度的均匀特征的重要参数。该装置还具有中低压力设置,用户应根据材料类型和所需蚀刻深度进行调整。板载诊断实时显示气流、腔室压力、离子束参数等。这样可以完全控制和监视蚀刻过程。Plasmalab 100是一个可靠、坚固的单元,易于安装和使用。其简单的用户控制面板允许快速访问所有必要的工具,这些工具可以根据特定的蚀刻需求进行定制。同时,它还具有先进的安全控制机制,以确保安全和负责任地使用易燃气体等危险材料。
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