二手 OXFORD Plasmalab 100 #293660206 待售

ID: 293660206
优质的: 2005
System With ICP 180 Gases: C4F8, CHF3, SF6 2005 vintage.
OXFORD Plasmalab 100是一款为精密等离子体蚀刻而设计的蚀刻器/asher,允许高蚀刻速度和均匀的蚀刻轮廓,同时还提供高能效和快速的样品处理。该设备包括具有先进真空技术的人性化桌面真空室、高精度卡盘和电极,以及用于将不同材料精确蚀刻到多种深度的应用专用软件包。利用系统的均质反应器,研究人员可以均匀地蚀刻底物而不发生样品转移或损坏。高蚀刻速率与高精度卡盘和电极组件相结合,使用户能够精确蚀刻具有高保真、可重现蚀刻轮廓的各种材料。此外,Plasmalab 100还通过独特的气体输送拼盘提供均匀的蚀刻深度和端点检测,该拼盘将反应性气体均匀地分布在基板上,以实现高蚀刻率均匀性。该装置先进的真空技术还允许采用超低压方式对亚微米沟槽和其他特征尺寸可达50纳米的微加工结构进行高分辨率蚀刻。这确保了干蚀刻工艺能够产生低温剖面,从而能够对先进设备进行实际蚀刻,并将因热应力而发生分层或断裂的风险降至最低。随附的软件包提供了广泛的应用程序可编程性,包括峰值优化、基板模式识别、端点检测、多轴控制以及更多的控制选项,以确保准确可靠的蚀刻结果。此外,还可以将自适应自学蚀刻工艺配置为连续改变蚀刻条件,以实现最佳蚀刻速率和轮廓控制。高级数据记录功能还允许轻松监控和显示流程参数、一天中的时间、耐用性和其他重要指标。OXFORD Plasmalab 100是薄膜、MEMS器件和MEMS元件蚀刻的理想解决方桉。它具有很高的准确性、可重复性和功能性,可提供干净、可重现的蚀刻配置文件,且样品移位或损坏的风险最小。这台机器非常适合研究先进的MEMS结构的研究人员,他们需要快速、均匀、可靠的蚀刻。
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