二手 OXFORD Plasmalab 100 #293772814 待售
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OXFORD Plasmalab 100是一款高度先进的等离子体蚀刻器/asher设备，设计用于半导体制造和研究应用中的精密蚀刻和灰化工艺。这种最先进的工具提供了卓越的过程灵活性、可靠性和可重复性,使其成为满足各种等离子体处理要求的理想选择。Plasmalab 100的核心是一个复杂的等离子体源，它产生一个高密度、均匀的等离子体，以便于从半导体样品中高效蚀刻和去除材料。该系统配备了多种气体输入，允许对工艺气体和参数进行精确控制，以实现整个样品表面所需的蚀刻速率、选择性和均匀性。OXFORD Plasmalab 100采用多用途的室内设计，可容纳各种样本量和形状，使用户能够处理各种不同尺寸和几何形状的材料。该设备先进的真空机确保了快速的泵降时间和高度的过程稳定性,有助于提高过程的可重复性和整体生产率。Plasmalab 100的关键优势之一就是其直观的用户界面，它为运营商提供了一系列全面的工艺配方和参数的便捷访问。该工具的软件允许实时监控和控制关键工艺参数,如气体流量、压力、功率和温度,使用户能够微调工艺条件以获得最佳效果。OXFORD Plasmalab 100提供一系列等离子体蚀刻和灰化能力，包括反应性离子蚀刻（RIE）、感应耦合等离子体（ICP）蚀刻和等离子体清洗/灰化。这些过程可以以高精度和可重复性进行，使资产适合于模式传输、装置制造、表面清洁和材料去除等应用。该型号先进的射频电源和匹配网络确保在整个样品区域稳定的等离子体生成和统一的处理。Plasmalab 100还具有先进的气体输送和溷合系统，能够精确控制等离子体的化学性质，便于定制蚀刻工艺以满足具体要求。除了卓越的性能和灵活性，OXFORD Plasmalab 100的设计考虑了用户的安全和环境考虑。该设备包括各种安全联锁和警报，以防止操作员接触危险化学品和高压，确保等离子体处理过程中的高水平操作安全。总体而言，Plasmalab 100是一款将先进的等离子体处理能力与用户友好操作相结合的前沿工具，使其成为寻求实现高质量、可靠蚀刻和粉刷工艺的半导体研究和生产设施的重要资产。它的多功能性、精确度和坚固的设计使它成为半导体行业中要求苛刻的等离子体处理应用的顶级解决方桉。
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