二手 OXFORD Plasmalab 100 #293812431 待售

ID: 293812431
Reactive Ion Etcher (RIE).
OXFORD Plasmalab 100是一款蚀刻器/asher,旨在为生产高级半导体器件提供最佳条件。该设备结合了低真空(1至1.5x10-2torr)环境和基于Plasmalab 100-TEM控制源的远程等离子体源。OXFORD Plasmalab 100是先进的三级等离子体处理系统,允许对工艺参数进行精确的控制。第一阶段由高速、计算机化的调谐/匹配网络组成,允许可变功率输入。第二级由一个电子倍增器组成,它与一个控制计算机结合使用来调制离子电流。第三级由真空密封圆柱形石英蚀刻室组成。这个腔室是专门为用户提供更大的蚀刻参数控制和优化性能而设计的。Plasmalab 100是制造精确、高电流接触和元件分离以及生产高密度设备的理想选择。该设备的高精度和可重复性也使其成为大批量制造设备的理想选择。OXFORD Plasmalab 100配备了一台内部诊断机器,可监控过程环境以确保最佳性能。该工具还具有高精度数字读出功能,为用户提供对蚀刻参数的更大控制,并允许对离子电流进行精确控制。Plasmalab 100还具有多种工艺气体,包括氙气、氧气和氢气,为蚀刻参数提供了进一步的控制。气体还放大功率水平,有助于创造更好的结合和准确性。OXFORD Plasmalab 100还带有独特的远程等离子体源,允许更精确的蚀刻和对工艺参数的精确控制。Plasmalab 100 蚀刻器/asher适用于多种任务,包括元件的接触和分离,试验结构的制造,以及高电流的接触。该资产还具有真空密封石英蚀刻室、18个电极图样和内部诊断模型,以确保最佳性能。OXFORD Plasmalab 100使其易于产生高质量和可靠的结果,确保任何生产任务的成功。其高度的精确度和可重复性使其成为大批量制造半导体器件的理想选择,使其成为任何生产环境的宝贵资产。
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