二手 OXFORD Plasmalab 100 #293830473 待售

ID: 293830473
Reactive Ion Etcher (RIE).
OXFORD Plasmalab 100是一种针对高级样品制备和沉积应用而设计的蚀刻/粉碎机设备。它是一种多阴极蚀刻器和asher组合,配备低电子电压。它在模式设计和工艺参数选择方面提供了充分的灵活性,并且能够与标准基板一起操作。Plasmalab 100具有三个独立的直径为20厘米的蚀刻室,每个蚀刻室配置有两个移动的磁控管阴极,允许在每个腔室中进行双过程和三过程。高速扫描磁控管,加上静态操作选项,产生良好的蚀刻均匀性和控制性。以不同的速率引入该工艺气体,使其始终处于蚀刻/灰分工艺的最佳浓度。该系统包括许多可配置的流程参数和功能。阴极功率可以设置在0到350 W之间,能量可以1 W增量变化。有一个安全互锁和控制单元,确保过程的完整性。样品支架对所有类型的基板都有普遍的支持。OXFORD Plasmalab 100还提供了广泛的灰化技术,包括低温灰化、介电蚀刻、传统的氧气或氧化剂为主的侵略性灰化。此外,该机还可以进行侧壁钝化和氮化。该工具的工具链中还包括一个低能离子轰击(LEIB)工具,用于清除过程中可能形成的任何粒子和碎片。可以使用质谱仪或光学干涉仪对ETCH/ASH工艺进行现场监测。资产还有一个集成的远程诊断工具,可以用来快速调整模型参数。Plasmalab 100是一种非常强大的设备,适合广泛的应用,从样品制备和蚀刻到沉积和加工。它的灵活性和高级功能使其成为最苛刻的应用程序的理想解决方桉。
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