二手 OXFORD Plasmalab 100 #9088671 待售

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图为 已使用的 OXFORD Plasmalab 100 待售
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已售出
刻蚀机、去胶机
製造商
OXFORD
模型
Plasmalab 100
ID: 9088671
PECVD / ICP Loadlock cluster system - up to 8" PECVD & ICP Computer - HP/ KAYAK operating Windows 98 The Oxford software is PC200 version 2.57.96 Controllers (PLC) 2 each of MCGE432022 Gases PECVD 200 sccm BCl3 100 sccm Cl2 200 sccm Ar 100 sccm NH3 200 sccm CF4 100 sccm O2 Gases ICP 2 SLPM 2% SiH4 100 sccm N2O 2 Slpm N2O 1000 sccm N2 The pumps with the system are: Leybold D40BCS Ruvac WSU250 Leybold D25BCS ICP unit has a Laser Reflectometer, SC Technology #220 PECVD has intermittent failure: mechanical pump shut off unexpectedly RIE is missing mechanical backing pump to the main process turbo pump 1996 vintage.
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OXFORD Plasmalab 100是一种蚀刻器/asher，设计用于提供晶圆材料的快速、精确的蚀刻/灰化。Plasmalab 100针对高均匀性性能进行了优化,为高级基材的沉积、蚀刻和剥离提供了一系列功能。OXFORD Plasmalab 100配备了坚固的等离子体源，确保了对工艺条件的精确控制。这包括气体质量流动、压力和温度调节以及反应室衬里。为了确保最高的均匀性和最佳的处理性能，确保过程参数的精确调整。而且，反应室中使用的磁场确保等离子体的能量分布均匀。该设备还可以方便地配置用于各种蚀刻和灰化应用，如深层蚀刻、过度蚀刻和选择性蚀刻。在工艺质量控制方面，Plasmalab 100配备了光发射光谱（OES），对蚀刻/灰化工艺提供实时反馈。这有助于确保流程的一致性和准确性。此外，通过快速准确的过程控制参数来保持过程的可重复性。最后，设备人性化，配有全彩色触摸屏显示屏。OXFORD Plasmalab 100能够处理直径达200毫米、厚度达1毫米的晶片基板。它支持不同的温度范围，高达1000 °C，以及Ar、H2、N2、O2等不同的工艺气体。此外,Plasmalab 100能够处理多个蚀刻/灰化配方,并可以提供配方切换功能,以及数据采集和工艺参数归档。综上所述，OXFORD Plasmalab 100是一种适合于晶圆加工应用的蚀刻器/asher。由于其强大的等离子体源、OES和准确的过程控制参数，它提供了精确和可重复性。此外,它还支持各种蚀刻/灰化配方、加工气体和温度范围。
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