二手 OXFORD Plasmalab 100 #9188881 待售

OXFORD Plasmalab 100
ID: 9188881
晶圆大小: 6"
ICP Etcher, 6" Currently crated.
OXFORD Plasmalab 100是一款功能强大的蚀刻器/asher。它是一种基于腔室的设备,结合高性能等离子体工艺用于纳米加工。该系统的特点是具有低真空环境和受控气流的大石英室,允许精确蚀刻或灰烬工作。该腔室还配备了大型基板支撑以及专用的原位光学模块、2D映射软件和不同压力状态的分段腔室。Plasmalab 100单元具有磁性‐气体供应,使用RF‐driven放电,使用户可以控制室内的活性物种,并在基质上沉积层。该机非常适合不同材料的蚀刻和灰分加工,包括复杂的结构。由于可以精确调整和稳定单个等离子体种类的密度、温度和压力,因此可以精确控制和重复开发的过程。OXFORD Plasmalab 100工具还能够与多种基板一起工作,如不锈钢、硅、玻璃和聚合物基板,允许用户为纳米级结构的开发开发蚀刻和灰烬应用。Plasmalab 100资产具有先进的计算机控制气体处理模型,允许使用不同的气体,从而实现最佳蚀刻和灰分性能。设备还配备了先进的诊断工具,如质谱仪、朗缪尔探针和环形电极阵列,使用户能够控制等离子体过程的动力学。OXFORD Plasmalab 100也可用于氮化工艺、阳极氧化和表面改性。此外,该系统还与各种附件组件兼容,如口罩、静电卡盘、阴影口罩和显微镜。Plasmalab 100经过设计,可以在低压、安全和可重复的环境中提供高性能的蚀刻和灰分工艺,让用户安全地开发复杂的纳米结构。其先进的特点使等离子体工艺能够快速、精确地优化和再现。该单元适合研究和生产应用,常用于半导体加工和MEMS应用。
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