二手 OXFORD Plasmalab 100 #9220686 待售

OXFORD Plasmalab 100是为精密等离子体蚀刻和灰化应用而设计的先进蚀刻和灰化设备。该系统采用高功率射频（RF）送电和精密过程控制相结合，提供精确蚀刻和灰化结果。该机组配备了一个12英寸可分配的质量聚焦24-GHz磁控管电源，可提供高达2 kW的射频功率。这台机器能够沉积多层材料而不会过度蚀刻，也不会增加明显的颗粒污染水平。Plasmalab 100具有多种工艺后灰化选项,可用于多种用途,包括材料制备、光刻和去除污染。该工具基于电源传递和过程控制提供了广泛的蚀刻和灰化选项,如铝蚀刻和灰化、硅蚀刻和灰化、玻璃蚀刻和灰化以及其他类型的蚀刻和灰化。该资产非常适合用于晶片测试样品的制备、光刻和新晶片的制备等应用。该模型能够各向同性和各向异性的蚀刻，没有明显的粒子穿透。它还配备了高度可配置的批处理设备，其中包括各种用户定义的可编程参数。OXFORD Plasmalab 100易于使用和维护，为用户提供了开发复杂蚀刻和灰化工艺的一系列工具。该系统提供低频ECR源、自动流量馈送子单元以及单线圈和双线圈加热选项。机器还具有一个大的，6 "x 12"的工作区，允许各种样本量。总体而言,Plasmalab 100是一种功能强大且可靠的蚀刻/灰化工具。它设计用于精密蚀刻和灰化结果，非常适合广泛的应用，从材料制备和污染去除到晶圆测试和光刻。