二手 OXFORD Plasmalab 100 #9364613 待售

OXFORD Plasmalab 100是一种基于感应耦合等离子体（ICP）驱动源的蚀刻器/asher。它由一个单一的大源室组成，可以向其中注入各种气体，以便对各种材料进行蚀刻/灰化。该腔室设计用于大型晶片基板和所需的等离子体参数，用于高精度蚀刻/灰化。它配备了一个低压感应耦合等离子体源，为蚀刻/灰化提供离子和中性物质。自偏置系统允许调节源功率、电极分离、射频频率等等离子参数。Plasmalab 100的腔室能够对直径不超过8英寸的样品进行蚀刻/灰化处理,同时实现超高的蚀刻长宽比,并最大程度地减少样品失真。它配备了多种硬件和软件功能，能够控制工艺压力、气流、晶圆表面正反溅射等参数，以及处理不同高度样品的能力。此外，它还包括一个内置的压力监控器和一个低压泵，可以将室内的压力降低到非常低的水平。OXFORD Plasmalab 100还具有高分辨率成像系统，可用于实时监测蚀刻/灰分过程，从而最大限度地减少对后处理成像的需求。它的自动抽水系统能够重复测量蚀刻/灰分过程，并允许精确调整等离子体参数以提高可重复性。Plasmalab 100还具有保护性安全联锁装置，以最大程度地降低源室超压和爆炸性的风险。OXFORD Plasmalab 100还包含一台能够产生500至5000赫兹频率的大功率射频发电机。此功能允许更改工艺参数和优化蚀刻/灰化配置文件,以更好地匹配客户所需的结果。此外，一系列的综合安全和安全报警器监测室内的压力，以确保最佳的工作条件。Plasmalab 100还包括几个内置监控系统,这些系统通过在需要维护时提醒用户来帮助降低维护成本。总体而言,OXFORD Plasmalab 100是一款先进的蚀刻器/灰化器,具有实现高精度蚀刻/灰化结果所需的所有功能。其综合特性使其适合多种蚀刻/灰化应用。先进的硬件和软件功能,加上集成的安全系统,确保Plasmalab 100为所有用户提供一致而可靠的蚀刻/灰化性能。