二手 OXFORD Plasmalab 133 #293651582 待售

OXFORD Plasmalab 133
ID: 293651582
晶圆大小: 4"
Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
OXFORD Plasmalab 133是一种精密的蚀刻和灰化设备,用于高精度生产表面样品。其独特的设计允许对各种材料进行精密的灰化和蚀刻,从金属和合金到甚至有机基板。Plasmalab 133非常适合在蚀刻和灰化过程中要求高选择性的过程,在这些过程中,高精度和精确的过程控制至关重要。它是一种自动化的等离子体蚀刻器和灰化器,可以编程为处理几乎任何厚度的材料样品。该设备采用脉冲射频(RF,射频)等离子体源,有可能整合氧气、氮气和其他气体。它的电源允许调整射频频率,以便对材料表面进行有针对性的蚀刻和灰化,以满足特定的要求。OXFORD Plasmalab 133还具有收集和监测蚀刻和灰化过程产生的气体的综合系统。这样就可以精确控制和监测过程,这对于质量保证和数据分析很重要。Plasmalab 133是为用户和环境的安全而设计的。使用1类安全膜时,任何接触有害气体或颗粒的情况都会最小化。此外,OXFORD Plasmalab 133可以独立或串联配置操作。在串联配置的情况下,可以将设备连接到其他设备和系统,从而可以执行更复杂的进程。Plasmalab 133的光学元件呈现出一组独特的特性,可以精确控制蚀刻和灰化过程。它具有对焦、照明和标线的可调性,可以提供卓越的公差控制,这是半导体制造等过程中的关键。其先进的光学系统还允许测量蚀刻深度,从而能够对工艺进行精确控制。整体而言,OXFORD Plasmalab 133是一款出色的蚀刻和灰化机,设计精密和精确的过程控制。它的高功率射频源、可定制的光学系统和用户友好的软件使其成为各种材料和工艺的理想选择,从金属和合金到有机基板。该工具还具有1类安全膜,可防止危险暴露,使其成为寻求自动可靠蚀刻和灰化解决方桉的用户的理想选择。
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