二手 OXFORD Plasmalab 133 #293824959 待售

OXFORD Plasmalab 133
ID: 293824959
Reactive Ion Etcher (RIE).
OXFORD Plasmalab 133是一种先进的蚀刻/灰化设备,用于对纳米级的材料进行精确的控制和操作。该系统用于创建具有严格规格的高度精确的组件,特别是用于微电子和纳米技术应用。Plasmalab 133配备了ECR(电子回旋共振)源,用于为蚀刻和灰化过程创造等离子体环境。该单元包含一个RF(射频)发生器、一个源等离子体腔和一个喷嘴组件来聚焦等离子体。ECR源的频率范围高达500 MHz,可以在广泛的工作频率范围内产生4 kW的最大功率。这个源也有一个可调的电离能,使得广泛的蚀刻和灰化过程。OXFORD Plasmalab 133的源室由不锈钢构成,允许在蚀刻和灰化过程中最多使用8个样品持有者。它还包含一个真空自动压力控制机,允许用户精确调节等离子环境的压力。该室还有一些规定,以便快速安装或清除加工气体,并保持背景压力。Plasmalab 133具有许多先进的功能,能够在纳米级对材料进行精确的操作,包括对材料进行高分辨率扫描和定位,以及高范围的蚀刻和灰化参数。此外,该工具还具有安全功能,包括温度监测、紧急停止和气体供应关闭阀。OXFORD Plasmalab 133是一种高度先进的蚀刻/灰化资产,适合生产精密元件。其功能强大且用途广泛的设计使其成为一系列纳米级操作的理想选择,其安全特性确保了该过程的精确度和谨慎。
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