二手 OXFORD Plasmalab 133 #9090816 待售

ID: 9090816
优质的: 2006
RIE (FL) Dry etchers FL: Configured for fluorine based chemistry Set up for SiO2 etch Platen: 330 mm RF Power: 600 W, 13.56 MHz Load lock with turbo pump Water cooled electrode: 10 C-80 C Windows PC Gas pod with (6) lines including following MFCs: Ar: 100 sccm N2: 200 sccm CHF3: 200 sccm NF3: 200 sccm N2O: 200 sccm Not included: Pump Chiller 2006 vintage.
OXFORD Plasmalab 133是一种高性能蚀刻和粉刷设备,能够在制造半导体器件的材料上产生错综复杂的图样。专为化学蚀刻和化学辅助离子蚀刻(CAI)应用而设计,能够处理广泛的参数。它强大且用户友好的计算机控制允许多个步骤的蚀刻和ashing过程具有非常严格的控制和可重复性。Plasmalab 133在单个模块化封装中结合了压力控制和其他先进蚀刻技术。其内置的大功率射频发电机,适用于蚀刻和灰化,在不同的压力水平提供最佳的工艺性能。OXFORD Plasmalab 133可以处理所有常见的蚀刻和灰化技术,包括标准湿蚀刻、干蚀刻、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、反应性离子蚀刻(RIE)、离子束蚀刻(IBE)。该系统完全自动化,可容纳直径不超过200毫米的基板,非常适合批量处理应用。Plasmalab 133是一款超精密蚀刻器和asher。它融合了先进的工艺控制和传感技术,结合其精确测量温度、压力、功率等蚀刻特性的能力,为自动化的高精度蚀刻和灰化提供了手段。它能够创建通风、挖沟和其他需要严格控制的复杂特征。此外,该单元还具有集成的视频查看功能,使操作员能够监控真空室边缘的蚀刻过程,以便在需要时进行快速调整。该机包含的SOP软件提供了强大的过程开发和控制灵活性。该软件允许针对不同的蚀刻参数和气流设置多个配方。此外,该软件还启用了Internet,允许灵活和远程的过程控制。OXFORD Plasmalab 133是一款先进的高端蚀刻和灰化工具,设计用于手动和自动化操作。它是一个完整的蚀刻和灰化解决方桉,提供快速的工艺时间,高精度,和精确控制蚀刻特性。
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