二手 OXFORD Plasmalab 133 #9151442 待售

ID: 9151442
Reactive Ion Etcher (RIE) Ion Coupled Plasma Etcher Chamber size: 380 VAT Gate valve with PM5 controller ADVANCED ENERGY RFX600A & HFV 8000 RF Power supplies ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 1000M Turbo pump with NT20 Controller Endpoint detector type: TB-XY-MA16 Match work and tuner Manual load lock Ceramic clamp (8) Mass flow controllers Power supply: 208 V, 60 Hz.
OXFORD Plasmalab 133是一款由OXFORD Instruments生产的蚀刻机和asher设备。它是一个先进的低压蚀刻器和asher组合平台。该系统设计用于半导体器件加工,包括聚合物、金属、电介质和陶瓷。该单元是处理薄膜、MEMS设备、LED、RF模块和其他高性能设备的理想工具。Plasmalab 133包括允许用户精确控制蚀刻、沉积或去除材料的功能和工具。该蚀刻器使用户能够生产干净且均匀的蚀刻层,以创建高精度电子设备。Asher提供了非常精细和高分辨率的薄膜材料溅射沉积。OXFORD Plasmalab 133具有强大的高分辨率磁控管溅射技术,提供了具有卓越特性粘附的膜的均匀沉积。这台机器还配备了各向异性蚀刻源和高度模块化的加工室,允许同时对几种材料进行蚀刻和加工。它还具有先进的自动化功能,可实现完整的过程控制和用户友好的界面。Plasmalab 133能够处理广泛的材料,包括硅、铝、砷化氙、铜和类似金刚石的碳。它也是为了满足半导体器件制造的严格要求而设计的,可用于各种应用,如电子发射加速、双极薄膜形成、化学机械平面化、选择性面积图样化等。此工具提供高级流程控制算法,允许用户调整流程参数并监视资产。Advanced Process Control (APC)功能会不断监视和评估您的流程参数,并自动调整相应的设置以保持最佳流程结果。此外,该模型是为在恶劣的环境条件下运行而设计的,并具有集成真空和气体供应。此外,它还配备了一系列安全功能和灭火设备,以保护您的人员和流程。OXFORD Plasmalab 133是任何希望在制造高性能电子设备时实现最高精度和准确性的工程师的完美蚀刻和asher组合平台。该系统设计可靠、高效,为各种材料的全精度蚀刻沉积提供了先进平台。
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