二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293697553 待售
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ID: 293697553
晶圆大小: 4"-6"
优质的: 1995
PECVD System, 4"-6"
Deposition: SiO2, SiH4 at 300°C
No burner gas abatement
EDWARDS E2M80 Vacuum pump
Mass Flow Controller (MFC)
RF Generator
PC Controller
1995 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款高度先进的蚀刻/asher设备,采用等离子体技术,设计用于半导体制造和研究应用中的精密蚀刻和灰化工艺。Plasmalab 80 Plus由OXFORD Instruments开发,OXFORD Instruments是各行业高科技仪器的领先供应商,以其卓越的性能、可靠性和在处理各种材料和基材方面的多功能性而闻名。OXFORD Plasmalab 80 Plus系统的核心是其先进的等离子体源技术,它产生了一个非常适合蚀刻和灰化过程的高反应性等离子体环境。该装置利用射频和微波能量相结合,产生一种受控的等离子体放电,有效地分解并以高精度和均匀性从基板表面清除材料。等离子体源配备了精密的阻抗匹配和调谐能力,以维持稳定的等离子体条件,优化工艺性能。Plasmalab 80 Plus的特点是具有可变电源的大型工艺室,允许用户根据特定工艺要求量身定制等离子能量密度和分布。该机提供多种气体注入选项,包括氧气、氟气和氯气等反应性气体,以及氙气和氦气等惰性气体,从而能够在精确控制蚀刻速率、选择性和轮廓特征的情况下进行各种蚀刻和灰化过程。在基板处理和工艺控制方面,OXFORD Plasmalab 80 Plus配备了一个多功能的样板台,能够容纳各种尺寸和类型的基板,包括晶圆、光掩模和平板显示器。该工具专为使用直观的软件界面实现自动化操作而设计,允许用户实时编程和监视流程参数,从而确保在多个处理运行中实现可重现和一致的结果。安全性和可靠性是Plasmalab 80 Plus资产设计中的首要考虑,内置互锁机构、气流监测、真空压力传感器等功能,确保安全高效运行。该模型还配备了先进的诊断工具和实时监控功能,以检测和响应过程条件中的任何异常或偏差,最大限度地减少停机时间并优化生产效率。总体而言,OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款尖端的蚀刻/asher设备,代表了半导体制造和研究应用等离子体加工技术的巅峰之作。Plasmalab 80 Plus凭借其先进的等离子体源技术、灵活的过程控制功能和坚固的设计,为蚀刻和灰化工艺提供了无与伦比的性能和多功能性,使其成为寻求实现设备制造最高精度和质量的研究人员和制造商不可或缺的工具。
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