二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293698011 待售

OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款高度先进的蚀刻/asher设备，设计用于半导体器件制造和研究应用中精确高效的等离子体处理。该系统以在等离子体蚀刻、灰化和表面改性过程中产生高质量结果的多功能性、灵活性和可靠性而着称。Plasmalab 80 Plus配备了广泛的特性和功能，使其适合多种材料和应用。它能够处理各种尺寸和材料的基材，包括硅、砷化​​氙、玻璃和陶瓷。该单元提供反应性离子蚀刻（RIE）和感应耦合等离子体（ICP）蚀刻模式，允许用户根据自己的特定需求选择最合适的工艺。OXFORD Plasmalab 80 Plus的一个关键特点是其先进的过程控制能力。该机配备了强大的射频发生器，能够精确控制功率、压力和气体流速等等离子参数。这允许用户优化工艺条件,以实现最大的蚀刻或灰度效率,同时确保批次的均匀性和可重复性。Plasmalab 80 Plus还配备了一种通用的气体处理工具，能够使用各种加工气体，包括氧气、氟气、氯气和氙气等。这允许使用者自订等离子体的化学性质，以达到特定的蚀刻或灰化结果，例如高选择性、各向异性蚀刻或各向同性等离子体清洁。除了先进的工艺控制和气体处理能力外，OXFORD Plasmalab 80 Plus还配备了先进的端点检测资产，能够实时监测蚀刻或灰化过程。该模型使用光发射光谱（OES）来检测等离子体中特定化学物种的存在，允许用户准确确定过程的终点，避免过度蚀刻或不充分蚀刻。Plasmalab 80 Plus专为易于使用和维护而设计,其用户友好界面允许直观操作设备。该系统还配备了自动清洁程序和诊断工具，有助于确保设备的长期可靠性和性能。总体而言,OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款尖端蚀刻机/asher机器,在等离子体处理方面提供无与伦比的多功能性、精确度和效率。无论是用于半导体器件的制造、研究，还是其他应用，这种工具都一定能提供高质量的结果，满足现代等离子体处理技术的苛刻要求。