二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #9226670 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9226670
Reactive Ion Etcher (RIE) Gases: Helium and Oxygen No gas box Vacuum pump Spare parts.
OXFORD Plasmalab 80 Plus是一种精密的等离子体蚀刻设备,用于快速原型设计和精密元件的小规模生产应用。Plasmalab 80 Plus专为在包括金属、聚合物、复合材料和电介质在内的一系列基材上精确、可重复地蚀刻形状和电路而设计,可提供精确、一致的结果。OXFORD Plasmalab 80 Plus具有一个真空室,它允许在加压环境中进行蚀刻过程。它还结合了输出高达1000升/秒的两级涡轮泵系统,通过在过程中产生正确的压力和气流来确保最佳蚀刻效果。该装置采用多级输气机,配有四条可单独控制的输气管线,可实现一致、准确的压力控制,实现精细细节的精密蚀刻。该工具包括电荷中和阴极保护资产,它采用离子源注射器来帮助维持安全的蚀刻环境。基板的背面是带有可变直流电源的反比亚接地,可同时控制等离子体蚀刻速率和蚀刻深度。Plasmalab 80 Plus集成了OXFORD Instruments的过程中监控模型,用于准确、详细的过程控制。这种设备允许自动电流控制、溅射沉积速率、腔室压力以及具有过电流保护的等离子体监测。该系统还具有自动基板索引功能,允许使用自动标签功能快速装卸基板。OXFORD Plasmalab 80 Plus还为非接触式样品装卸提供便利,配有一个便于取用的盒式设备,每个盒式设备最多可移动8个基板。该机还提供高精度垂直细步定位和200 mm x 200 mm的最大行程范围,非常适合控制细纹蚀刻。总之,Plasmalab 80 Plus是一个高度先进、多功能的蚀刻平台,允许在一系列材料上精确、可重复地蚀刻精细电路。这与自动化的用户友好控制和安全功能相结合,使其成为众多研究、原型设计和生产级别应用程序的理想解决方桉。
还没有评论