二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #9260764 待售
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已售出
ID: 9260764
晶圆大小: 6"
优质的: 1997
Reactive Ion Etcher (RIE), 6"
Gases: SF6, CHF3, Ar, O2, N2, H2
Cryogenic head
Capable of etching at 77K (LN2 Temperature)
Goes up to 50°C (323K)
(3) Gas mass controllers with valves
Backing pump
1997 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus是一种先进的反应性离子蚀刻器(RIE),用于电子、光学和生物医学设备的微加工。蚀刻器结合了高端性能、最大兼容性和灵活性,以及出色的人性化操作。先进的设备配备了先进的计算机控制平台,高吞吐量的双室设计,以及坚固、符合人体工程学的真空系统。该设备的第一代RIE技术能够以统一、可重复的方式提供精确的蚀刻精度。它具有全面的计算机控制界面,并可能添加多个并发进程。其高通量架构允许金属、玻璃等各种材料的快速蚀刻。它还提供了与各种不同材料的出色兼容性,同时提供模拟和数字平台。Plasmalab 80 Plus提供精确的深度剖析,可重复精度为1.5厘米,分辨率为0.2厘米。其腔室可净化至1.103毫巴,以完全清除所有工艺残留物。其先进的控制机器能够精确控制所有参数,包括配方选择、基板温度、射频功率、射频频率、直流偏压、真空、流量等等。其绝缘设计保证了反应性离子蚀刻的最佳电离条件,提供了均匀的蚀刻速率和增强的选择性。手动气流控制可以微调蚀刻速率和结果的均匀性。此外,该工具还包括一个集成的负载锁定资产,可确保在每个周期中安全的物料处理和自动化的过程控制。OXFORD Plasmalab 80 Plus还配备了多种配件,如晶片支架、覆盖物和额外的加工设备。这允许根据特定的客户要求进行自定义设置,并使其成为各种应用程序的最佳选择。总体而言,Plasmalab 80 Plus是一款先进可靠的反应性离子蚀刻器模型,提供了卓越的精度和可重复性,在各种应用中都能取得完美的效果。设备的灵活性和兼容性使其成为任何微加工工艺的理想选择。
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