二手 OXFORD Plasmalab 80 Plus #9409921 待售
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ID: 9409921
晶圆大小: 8"
优质的: 2009
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) System, 8"
Diameter electrode: 460 mm, 4"-12"
Chamber uniformity: <2%
Silicon nitride and silicon dioxide layers
Top electrode, 18.75"
With shower head gas
Electronics and vacuum component
Mass flow controller
Wall mounted gas pod
(6) MFC Gas controllers
Gases: He, N2, N2O, NH3, 5% SIH4 / 95% N2, 80% CF4- 20% O2
PC Controller
Advanced graphics and process recipe pages
Vacuum pump and blower package
Power supply: 208 V, 18 A, 3Phase
2009 vintage.
OXFORD Plasmalab 80 Plus是一款最先进的蚀刻器/asher,旨在在各种商业和实验室环境中提供精确高效的性能。它采用最新技术和先进的工艺流程,以精确的厚度快速准确地构建金属和其他材料层。该机以精心设计的腔室和泵总成为基础,能够以500毫巴的速度抽出高达55升的氙气。这是由高精度软件包控制的,该软件包使用户能够准确监视和控制蚀刻/灰化过程。腔室配备了最新的电子光学器件,有助于更高效、更准确地进行蚀刻/灰化过程。还安装了专用的电感耦合等离子体(ICP)源,这些源由质量最高的材料制成,可提供高达1000 W的功率沉积。通过这些改进的源和光学器件,Plasmalab 80 Plus能够在短短几分钟内取得优异的蚀刻/灰化性能。此外,源可以使蚀刻/灰化速度比以前快50%。这款蚀刻器/asher的其他部件包括高性能涡轮分子真空泵和快速质量流控制器(MFC)。真空泵在过程中可以达到1.3 x 10-5 Torr的顶压,而MFC提供高速温度控制。使用单独的组件,通过提供额外的高功率电源和高级过程控制来优化蚀刻/灰化过程。OXFORD Plasmalab 80 Plus的高精度使其在竞争对手中脱颖而出。它可以将蚀刻/灰度参数精确地调整到千分之一毫米,使用户能够产生非常精确的结果。机器的可靠性能也确保了最小的浪费和成本,因为它始终产生一致和准确的结果。总体而言,Plasmalab 80 Plus是那些在项目中需要精确高效蚀刻/灰化的用户的理想选择。凭借其先进的设计、可靠的性能和高精度,它非常适合商业和实验室环境。它的价格似乎很高,但这台机器提供了极好的投资回报。
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