二手 PLASMATHERM 790 #293738215 待售

PLASMATHERM 790是一款用途广泛的等离子体蚀刻器/asher设备，设计用于半导体制造、MEMS（微机电系统）制造以及研发环境中的高级蚀刻、灰化和薄膜沉积工艺。此尖端系统提供精确的过程控制、高均匀性和出色的可重复性,非常适合需要精确表面修改和材料去除的各种应用。790具有双频射频等离子体源，在整个过程腔室提供稳定且高度均匀的等离子体密度。这种均匀性对于在不同尺寸和形状的基板上实现一致的蚀刻和灰化结果至关重要。该装置能够处理直径达200毫米的基板，使其适合加工标准半导体晶片以及用于研究应用的较大基板。PLASMATHERM 790中的等离子体源可以在连续波（CW）和脉冲模式下操作，使使用者可以灵活地量身定制等离子体特性，以适应其特定的工艺要求。该机配备了一系列气体输送选项，包括用于精确控制气体流量的质量流量控制器，以及用于优化气体溷合和输送到加工室的淋浴头气体分配工具。790的关键特征之一是其先进的流程监控能力。该资产配备了实时端点检测模型，允许用户通过监测光发射信号、射频功率、气体流速等关键过程参数来精确控制蚀刻或灰烬过程。此反馈控制机制可确保工艺在所需的端点停止,从而防止基板过度蚀刻或不足蚀刻。PLASMATHERM 790还提供一系列蚀刻化学，以适应各种材料类型和工艺要求。该设备能够对硅、二氧化硅、氮化硅、金属和半导体器件制造中常用的其他材料进行干蚀刻。此外，该系统可用于等离子体灰化工艺，以便在进一步加工之前从基板上去除光致抗蚀剂和其他有机污染物。在自动化和过程集成方面,790与高级软件包兼容,这些软件包支持配方管理、数据日志记录和远程监视功能。该设备可无缝集成到多工具群集平台中,以实现高通量制造环境,从而在不暴露于环境条件下的情况下,在工艺室之间高效地传输基板。总体而言，PLASMATHERM 790是半导体和MEMS应用中用于先进等离子体蚀刻和灰分工艺的最新解决方桉。该机器具有卓越的工艺控制、高均匀性和多用途能力,非常适合研究和生产环境,在这些环境中,精确的表面修改和材料去除对于实现高设备性能和产量至关重要。