二手 PLASMATHERM 790 #293775580 待售

PLASMATHERM 790是一款尖端的等离子体蚀刻器/asher设备，设计用于在研究或生产环境中对半导体和其他材料进行精确蚀刻和清洗。这款高性能工具配备了先进的技术，提供卓越的工艺控制、均匀性和可重复性，使其成为半导体、MEMS、纳米技术等行业广泛应用的理想选择。790的特点是具有高密度等离子体源的复杂等离子体加工室，通常采用感应耦合等离子体（ICP）技术，产生高反应性等离子体，有效蚀刻和清洁基板表面。该系统能够处理200 mm以下的各种晶片尺寸,并提供可自定义的配置,以适应不同的工艺要求。PLASMATHERM 790的主要亮点之一是其先进的工艺能力，包括蚀刻和灰化功能。蚀刻是半导体制造中的一个关键过程,用于有选择地从晶圆表面移除材料层,以创建阵列、沟槽或用于设备制造的通风。790提供了对蚀刻特征的蚀刻速率、选择性和轮廓的精确控制,使用户能够实现亚微米分辨率的高精度阵列。除了蚀刻之外，PLASMATHERM 790还可以作为一种灰化器，用于在蚀刻过程后从晶片表面去除有机污染物、光致抗蚀剂残留物或其他有害材料。单元中的asher模块利用等离子体和反应性气体的组合，在不损坏底层的情况下高效清洁基板，确保最终装置的质量和可靠性。790配备了一系列先进的控制功能，以优化工艺性能，确保结果一致。该机包括高度可配置的气体输送工具、精确的射频功率控制、温度控制和压力调节，根据应用的具体要求量身定制等离子工艺参数。此外,还将资产与高级端点检测功能集成在一起,以实时准确监控蚀刻或灰化过程的进度,从而实现精确的过程终止和端点控制。此外，PLASMATHERM 790还提供了一个用户友好的界面，具有先进的软件控制，便于操作和监控工艺参数。该模型允许用户创建和存储自定义流程配方，执行自动流程优化，并生成详细的流程报告用于分析和文档。高级数据记录和分析工具使用户能够跟踪流程参数、监控设备性能,并确定故障排除和优化的任何潜在问题。总体而言，790是一种最先进的等离子体蚀刻器/灰烬系统，旨在满足现代半导体和材料加工应用的苛刻要求。PLASMATHERM 790凭借其先进的技术、卓越的工艺控制和多功能性,为研究、开发和生产环境中的高精度蚀刻和清洁过程提供了可靠的解决方桉。