二手 PLASMATHERM 790 #9124022 待售
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ID: 9124022
晶圆大小: 2"-6"
优质的: 1993
PECVD Deposition system, 2"-6"
PC OS controlled
8" Electrode
Advanced Energy RFPP - RF5S power supply
Gas panel: 5 MFCs- N2, SiH4, NH3, N2, CF4
NESLAB RTE III Chiller
Power supply: 208 V, 3 Phase, 60 Hz
1993 vintage.
PLASMATHERM 790是为各种研发和生产应用而设计的高精度蚀刻器/asher。它配备了强大、稳定、精确的等离子体源,具有最优的高选择性效率。设备采用先进的微波等离子体技术,实现最大程度的蚀刻和灰分再现、工艺精度、整体质量控制。790利用强大的射频电源以及先进的激光控制系统和高效等离子体发射器,实现精确的过程控制和量身定制的吞吐量。这个单元的核心是一个获得专利的ASI(原子机器接口),它提供了对每个处理步骤分别进行编程的能力,允许复杂的处理和苛刻的要求。该工具为流程优化提供了高级定时流程,可通过各种参数进行微调。它还配备了先进的控制工具,可以帮助实现均匀的蚀刻深度和工艺几何形状。此外,PLASMATHERM 790还具有快速可靠的可重复性功能,可确保在整个生产运行过程中结果的一致性。该资产提供多种工艺选项,如气体蚀刻、高压和低压等离子体蚀刻、反应性离子蚀刻(RIE)和纳米结构,可通过高级CAD建模、建模动画和集成光学检查集成到单片运行中。该模型还具有集成的两级真空设备,对等离子体源提供无与伦比的控制,使系统具有出色的工艺通用性。此外,790还配备了温度监控、射频泛滥、过程评估和优化以及产品验收测试等高级功能,以确保准确性和可重复性。利用其集成软件包,用户可以监控和分析等离子体操作,并为特定应用创建自定义配方。该单元的用户友好界面允许简单直观的操作和配置。总体而言,PLASMATHERM 790是要求苛刻的应用程序的理想蚀刻器/asher。它提供了通用、高精度的蚀刻/灰化工艺,以及卓越的控制功能。这台机器非常可靠、可重复、经济高效,对于希望保持生产线高效运行的企业来说,它是一个有吸引力的选择。
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