二手 PLASMATHERM 790 #9230292 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放


已售出
ID: 9230292
优质的: 1993
Dual chamber RIE/PECVD system
Left chamber: RIE
O2, H2, CF4, CH4, SF6, CHF3, Ar
Right chamber: PECVD
N2, N2O, 2% SiH4 in N2, 2% SiH4 in He, NH3, CF4 + O2, He, Ar
Heater: Depositing oxides and Nitrides (250°C - 300°C)
Manual / Automatic mode
RF Generator
Maximum RF power: 500 W
1993 vintage.
PLASMATHERM 790是一款用于半导体制造的先进蚀刻和asher设备。它被设计为高效、精确,提供具有最大重复性的光刻质量蚀刻结果。该系统采用鲁棒蚀刻控制和真空室技术,用于超低掺杂水平和受控轮廓控制。790能够通过提高均匀性、延长蚀刻工具寿命、提高吞吐量、提高产量等方式提供优越的工艺改进。PLASMATHERM 790的先进技术利用直写蚀刻,一种使用聚焦光束蚀刻给定材料最多4层的方法。这种方法比溅射、离子束蚀刻和激光烧蚀实现更高的保真度。790能够以2微米特征尺寸或更大的惊人精度蚀刻和重新蚀刻材料。这使制造商能够创建更精细的设计和更小的功能。该装置有一个10 W RF电源,它提供了以更高速率蚀刻的能力,同时确保最小的离子污染。此外,PLASMATHERM 790的保护涂层设计用于在每一个蚀刻过程中保持一致的进度。这样可以确保均匀性,并且无需频繁调整蚀刻参数。790还有原地清洗和重新蚀刻选项。这与需要在蚀刻步骤之间进行手动清洗的旧流程相比具有显着优势。原位清洗和重新蚀刻可减少未对准问题,提高产量。此外,这台机器能够提供更好的过程稳定性和减少蚀刻粒子的产生、波动和超速。PLASMATHERM 790设计用于OEM医疗、电信、汽车和消费电子产品。因此,该工具能够进行基础材料加工的半熟练操作。事实上,790已被证明是一项可靠和方便用户的资产,其直观的图形用户界面和全面的知识数据库能够方便操作。此外,该模型完全自动化、方便和坚固,具有高性能和用户友好的功能,可确保在制造精细元件时获得可重复和可靠的蚀刻效果。
还没有评论