二手 PLASMATHERM 790 #9260193 待售

ID: 9260193
优质的: 1993
PECVD System Operating system: Windows 3.1 RF Plasma ADVANCED ENERGY RF 5S Power supply Power output: 500 W at 13.56 MHz Max pressure: 900 mT Deposited materials: Amorphous Nanocrystalline Si deposition Si3N4 SiO2 films Gases: CF4 / O2 CH4 / 10 sccm He / 500 sccm N2O / 100 sccm B2H6 / 10 sccm PH3 / 10 sccm NH3 / 500 sccm SiH4 / 50 sccm H2 / 10000 sccm N2 Needle valve 1993 vintage.
PLASMATHERM 790是一种Etcher/Asher,特别是一种利用等离子体在包括金属、半导体和聚合物在内的多种材料上进行蚀刻、清洁和活化的技术。该装置具有多种蚀刻和灰化选项,包括反应性离子蚀刻(RIE)、化学气相沉积(CVD)工艺和干释设备。该系统配备了两种高功率射频能量来源,与其他蚀刻系统相比,可实现更高的吞吐率和应用灵活性。PLASMATHERM包括RF曲面打击以及多个配置选项,包括自动居中和自动扫描。该单元包括一个6.4英寸的IDLF(Chamber Desiccator Lid),一个满载的烘烤站,以及用于强大蚀刻和灰化要求的直接到伏电源。6.4英寸IDLF可处理高达2.7 nm/秒,最大导轨速度为30 nm/分钟。PLASMATHERM还配有一个集成的温度监控单元。温度控制和监控单元基于两个读数,两个电源各一个。这允许使用者调节等离子体室的温度,以优化处理结果。790在高容量过程中使用先进的ECOALD电动级进行精确运动控制。这种运动控制机器使用内部控制器来监控舞台运动,从而实现更具攻击性的机械式稳定性。该阶段的碳纤维和钢结构保证了大批量加工过程中的稳定性。该工具还包括温度监测和控制高达1000 °C。PLASMATHERM 790有内置控制单元监控资产和内置诊断单元。此功能允许用户测试其流程,并根据需要进行调整或故障排除。PLASMATHERM还具有多种安全功能,以保护用户在操作过程中免受伤害。该模型设计用于在气体或电压波动时自动切断电源,以及防爆措施,以保护人员免受意外压力增加的影响。设备还包括内置石英窗清洁器,保护瓷器。790是一款先进的自动化Etcher/Asher,专为大容量操作而设计。它配备了多种特性,包括先进的运动控制、温度控制和爆炸防护。该单元能够以高精度和精确度蚀刻各种材料,允许用户针对特定作业优化流程。内置的安全功能进一步确保了用户在操作过程中的安全。
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