二手 PLASMATHERM VLR #9156983 待售
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ID: 9156983
晶圆大小: 8"
优质的: 2002
ICP Bosch system, 8"
Cassette to Cassette System
(1) LM-TM: Single load lock with single end effector
(2) VLR ICP Modules
PM1 & PM2 Configuration:
(4) MFCs
VAT PM5 Throttle valve controller
Leybold 1000C turbo pump with NT20 controller
ENI 600W RF Power supply for lower electrode with matchwork and tunner
Advanced energy RFPP 10M RF power supply
Heated chamber walls with 6 zone controller
Soffie class III laser endpoint on PM2
Windows OS with plamatherm versaworks software
208V, 30A,60Hz
2002 vintage.
PLASMATHERM VLR是一种为高通量、精密蚀刻和清洁应用而设计的蚀刻器和asher设备。该系统采用了创新的PlasmaPlus TM技术,用于先进的制造工艺。此过程将远程等离子体、离子束和O2-glycol过程的电晕放电等离子体过程与氧等离子体过程结合起来,提供最高的蚀刻分辨率和清洁过程结果。VLR设备非常适合在各种表面和基板上的生产应用,包括玻璃、金属和陶瓷。该计算机具有易于使用的用户界面,允许高级流程控制。屏幕上的墙面菜单允许访问多个参数和功能,用户友好的Touchsensitive LCD触摸屏允许简单地执行操作命令。该工具具有功能强大的自动配方编辑器,允许用户为经验丰富的操作员调低参数或调高结果设置。资产由两个相互连接的密室组成,它们构成其组合的蚀刻/清洁室。第一室是蚀刻室,由两个"板"组成,一个底板和一个顶板。底板与一条分布的气体入口源线相连,负责将反应性气体物种输送至基板表面。顶板装有在基板表面产生等离子体的电极。第二个腔室是清洁室,配有夹具和喷嘴,用于输送各种不同的清洁液。PLASMATHERM VLR模型采用了先进的高能效高密度等离子体(HDP)源,以确保反应性物质被有效地输送到基质上,并获得清洁和可重现的工艺结果。其他高级功能包括气体交换、自动配方编辑器、快速处理时间和低拥有成本。总体而言,VLR蚀刻器和asher设备为高通量生产环境中的高级蚀刻和清洁应用提供了强大的解决方桉。该系统先进的等离子体概念和高能效的HDP源技术以较快的工艺时间和较低的拥有成本提供了优越的工艺效果。单位人性化的界面、直观的操作和自动化的配方编辑器,也确保了最高的蚀刻分辨率和干净的工艺效果能够快速轻松地实现。
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