二手 PLASMATHERM VLR #9205768 待售
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ID: 9205768
晶圆大小: 6"-8"
优质的: 1996
Reactive Ion Etcher (RIE), 6"-8"
Wafer processing
LM / TM System
1996 vintage.
PLASMATHERM VLR是为半导体和晶圆级制造而设计的高效蚀刻器/asher设备。它配备了可产生高达3000瓦功率的直接驱动等离子发电机,能够达到高达197摄氏度的温度。VLR系统旨在提供精密和精确的亚微米蚀刻,提供非常干净的边缘轮廓,具有极高的均匀性和产量。PLASMATHERM VLR单元具有先进的批处理控制器,以及环境控制单元(ECU),允许精确的温度和清洁调节。VLR Machine还提供多种工艺选项,如超低压蚀刻和1000 Hz热爆破,以实现对工艺的最大控制。PLASMATHERM VLR Tool可以与几种类型的材料一起使用,包括Copper、Aluminum和Triton 20材料,允许用户从各种尺寸中选择正在加工的小零件。此外,它还支持自动掩码移位,允许在需要时快速精确地进行掩码移位。该资产还提供了独特的气相蚀刻模型,该模型允许对聚合物和氧化物层进行等离子体处理,以及T型熔断反应。VLR Equipment还拥有广泛的安全系统,其中包括火焰陷阱、火灾探测和火灾报警器。所有安全措施确保用户在使用设备时安全。PLASMATHERM VLR Machine具有直观的图形用户界面,允许轻松修改过程参数、设置批次、运行配方和监视蚀刻过程。为了增加便利,该工具可以连接到一个网络,允许它与其他系统通信。VLR Asset还有一个液晶显示器(LCD),可以在蚀刻过程中轻松监控过程。总之,PLASMATHERM VLR模型是一种高效、高精度的半导体和晶圆级制造蚀刻/灰化设备。它配备了直驱等离子体发生器、先进的批量处理控制器和环境控制单元,允许精确的温度和清洁调节。它还提供多种工艺选择,包括超低压蚀刻和1000 Hz热爆破。此外,系统还配备了火焰陷阱、火灾探测、火灾报警等安全功能。直观的图形用户界面和液晶显示屏使得在蚀刻过程中监控过程变得容易。
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