二手 STS / CPX Multiplex ICP #293619106 待售
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STS/CPX Multiplex ICP是来自Applied Materials的一种最先进的大型蚀刻器/asher设备。它是一个完全集成的多束系统，集成了离子源、磁光构型和高精度沉积平台，用于精确的结晶膜深度控制。该装置配备了双离子源，能够处理从的一系列材料，从到的的移动移动。双源允许同时蚀刻两层，实现比单一源更精确的蚀刻轮廓。它还提供各种蚀刻气体，从而能够处理各种材料。离子束可以高精度聚焦到现场，既能实现高质量的蚀刻轮廓，又能实现低缺陷率。基板支架设计为基板沉积的精确控制提供了一个稳定的平台。该机采用高功率的磁光结构，具有可调的磁力，允许极其精确的蚀刻轮廓和精确的结晶膜厚度控制。此工具可精确控制蚀刻轮廓以及高达800 nm/min的蚀刻速率。高功率可以精确控制离子束参数，包括离子能量和范围、束直径和扫描速度，从而提高过程控制。另外，角度色散限制装置有助于减少二次离子散射的不利影响，并确保蚀刻特征的精确形状。STS Multiplex ICP具有先进的等离子体控制功能，允许资产在低原位残留气体压力下达到超高真空率。该模型还提供了一种创新的安装在天花板上的等离子体控制器，从而提高了可重复性并简化了配方开发。最后，该设备配有一个全面的集成软件包，其中包括一个建模工具包和一个用户界面。建模工具包可帮助工程师优化蚀刻过程,而用户界面有助于快速编写和执行流程。它还允许对许多不同的材料和基材进行单配方加工。CPX Multiplex ICP是任何工业或研究应用的理想蚀刻器/asher。该系统采用双离子源、先进等离子体控制和高精度沉积平台，对蚀刻速率和特征几何形状进行精确控制，非常适合要求最苛刻的蚀刻工艺。
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