二手 STS / CPX Multiplex ICP #9165960 待售

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STS / CPX Multiplex ICP
已售出
ID: 9165960
晶圆大小: 6"
优质的: 1997
Dry etcher, 6" For MEMS 1997 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP 蚀刻器/asher是各种工业应用的可靠且经济高效的工具。本机精度高,用于射频等离子体中的小几何特征层。该设备提供多达8轴完全集成的基板处理,可依次蚀刻、灰烬和加工不同形状和大小的材料。STS Multiplex ICP蚀刻/灰分机采用高效、先进的离子生成工艺和技术,工艺均匀性极佳,处理成本降低。该系统利用一个专有的、曲线型、无光门的光源进行可控蚀刻轮廓,并具有卓越的均匀性控制。在同一进程模块中可以使用多个源。高级蚀刻/灰分过程包括控制单元、负载锁、腔室、射频发生器和可选的Robot臂模块等组件。控制机包括工具、PROM编程和维护软件,以及板载过程监控资产。负载锁包含双角色腔室,能够在不同腔室配置中进行蚀刻/灰烬应用。CPX Multiplex ICP蚀刻/灰机具有灵活的过程控制,具有可调低压等离子体源,用于蚀刻多种材料。蚀刻过程基于频率、功率、气体生产等自变量参数的控制。射频发电机提供精确、受控和可重复的性能。这台机器为蚀刻和灰烬步骤的精确重复性提供了最佳的射频频率选择,以创建完美的结构。SRF电源可实时监控调整。可选的机器人手臂模块可自动移动基板和从负载/卸载锁。手臂的运动可以被编程,以提高精度和减少停机时间。该模型具有自动腔室通风程序,提高了安全性和便捷性。蚀刻过程包括压板等离子体预处理、离子暴露调理、溅射预倾斜。多路ICP蚀刻/灰分机是射频等离子体小几何特征精确控制的绝佳选择。此蚀刻器/asher提供了卓越的耐用性和低成本。它是一种可靠、高效且经济实惠的机器,适用于各种制造应用。
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